[发明专利]光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置及方法无效

专利信息
申请号: 200710023845.2 申请日: 2007-06-22
公开(公告)号: CN101078885A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 汤伟平;刘文海 申请(专利权)人: 芯硕半导体(合肥)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01M11/00;F21V7/00
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 代理人: 余成俊
地址: 230601安徽省*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光刻 技术 提供 均匀 稳定 光源 装置 方法
【权利要求书】:

1.光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置,其特征在于包括有一个积分球,在积分球上有一个或多个光线投射口,积分球上有出光口,出光口靠近光线投射口一侧内壁上有遮光挡板,所述的光线投射口上安装有发光光源,或者有发光光源发出的光线从光线投射口进入积分球内,从积分球出光口发出的光经过光学聚光和投影的照明光学器件,把相应的均匀稳定的等效平面光源投影到光刻装置的图形发生器上。

2.根据权利要求1所述的光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置,其特征在于所述的发光光源为一个或多个的非均匀的光源,是发光二极管,或半导体激光器,或弧光灯,或者其任意的组合。

3.根据权利要求1所述的光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置,其特征在于所述的积分球为一个球状腔体,或者是多个相互联通的球状腔体的集合。

4.根据权利要求1所述的光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置,其特征在于所述的光线投射口位于出光口非正对位置。

5.光刻技术中提供均匀稳定的面光源的方法,其特征在于在一个或相互联通的多个积分球上,安装一个或多个发光源,并设置出光口,使得多个光源发出的光在积分球内经过多次反射后,从出光口发出的光成为一个等效的理想均匀的发光面光源,经过光学聚光和投影的照明光学器件,投影到光刻装置的图形发生器上。

6.根据权利要求1所述的光刻技术中提供均匀稳定的面光源的方法,其特征在于所述的发光光源为一个或多个的非均匀的光源,是发光二极管,或半导体激光器,或弧光灯,或者其任意的组合。

7.根据权利要求1所述的光刻技术中提供均匀稳定的面光源的方法,其特征在于所述的聚光和投影的照明光学器件可以是临界照明方式,或者是柯拉照明方式。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芯硕半导体(合肥)有限公司,未经芯硕半导体(合肥)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710023845.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top