[发明专利]光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置及方法无效
申请号: | 200710023845.2 | 申请日: | 2007-06-22 |
公开(公告)号: | CN101078885A | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
发明(设计)人: | 汤伟平;刘文海 | 申请(专利权)人: | 芯硕半导体(合肥)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01M11/00;F21V7/00 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230601安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 技术 提供 均匀 稳定 光源 装置 方法 | ||
1.光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置,其特征在于包括有一个积分球,在积分球上有一个或多个光线投射口,积分球上有出光口,出光口靠近光线投射口一侧内壁上有遮光挡板,所述的光线投射口上安装有发光光源,或者有发光光源发出的光线从光线投射口进入积分球内,从积分球出光口发出的光经过光学聚光和投影的照明光学器件,把相应的均匀稳定的等效平面光源投影到光刻装置的图形发生器上。
2.根据权利要求1所述的光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置,其特征在于所述的发光光源为一个或多个的非均匀的光源,是发光二极管,或半导体激光器,或弧光灯,或者其任意的组合。
3.根据权利要求1所述的光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置,其特征在于所述的积分球为一个球状腔体,或者是多个相互联通的球状腔体的集合。
4.根据权利要求1所述的光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置,其特征在于所述的光线投射口位于出光口非正对位置。
5.光刻技术中提供均匀稳定的面光源的方法,其特征在于在一个或相互联通的多个积分球上,安装一个或多个发光源,并设置出光口,使得多个光源发出的光在积分球内经过多次反射后,从出光口发出的光成为一个等效的理想均匀的发光面光源,经过光学聚光和投影的照明光学器件,投影到光刻装置的图形发生器上。
6.根据权利要求1所述的光刻技术中提供均匀稳定的面光源的方法,其特征在于所述的发光光源为一个或多个的非均匀的光源,是发光二极管,或半导体激光器,或弧光灯,或者其任意的组合。
7.根据权利要求1所述的光刻技术中提供均匀稳定的面光源的方法,其特征在于所述的聚光和投影的照明光学器件可以是临界照明方式,或者是柯拉照明方式。
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