[发明专利]光学测量系统的屏蔽方法

权利要求书

1.一种光学测量系统的屏蔽方法，其特征是在光学测量系统的光学k9玻璃表面上镀ITO透明导电薄膜。

2.根据权利要求1所述的光学测量系统的屏蔽方法，其特征是所述的镀ITO透明导电薄膜的步骤包括：

①将激光测距仪的光学k9玻璃镜面进行清洁预处理；

②采用DHK-500镀膜装置和ITO烧结靶；

③将预处理的光学k9玻璃镜面的镜片装夹在DHK-500镀膜装置内的基片架上，光学k9玻璃镜片与溅射靶的靶面之间距离为40～50mm；

④抽真空，使真空室的本底真空度高于5×10^-3Pa，充入氩气真空度达到6×10^-3Pa～7×10^-3Pa，施加射频电压，将电压控制在300～500V，发生辉光放电现象，形成等离子区，通入氧气，真空度达到9.1×10^-3Pa～9.9×10^-3Pa；

⑤根据屏蔽性能的要求，计算ITO薄膜的厚度，并通过石英晶体薄膜厚度测量仪在线监控薄膜生长厚度；

⑥调节溅射功率达到280W～320W，正常沉积ITO薄膜；

⑦达到设定薄膜厚度后，停止溅射；

⑧对光学k9玻璃表面上沉积薄膜ITO膜，经过380℃～420℃温度下35min～45min真空热处理退火工艺，面电阻值可降至10～25Ω/□，制得ITO透明导电薄膜。

3.根据权利要求2所述的光学测量系统的屏蔽方法，其特征是所述的清洁预处理是先用去离子水冲洗光学k9玻璃镜面去除灰尘和固体污物，然后用酒精和乙醚混合液浸泡光学k9玻璃镜面去除油污后，采用干燥热风机吹干玻璃表面，用高级擦镜级浸醇醚混合液对局部污点一个方向擦拭干净，用紫外灯分解碳氢化合物后，用醋酸戊酯硝化纤维保护镜面。