[发明专利]可垂直与平行运动的真空磨具

说明书

技术领域

本发明涉及一种研磨机具，特别是涉及一种可垂直与平行运动的真空吸附磨料的磨卡具。

背景技术

以往的研磨材料，以研磨人工晶体为例采用石蜡或是别的粘合剂加热涂在载料块上，然后加热取下擦净，这种制备方法存在着两个较大问题。

1.涂层不能保证特别均匀，这样晶体片粘上后会产生倾斜度，研磨后会使晶体片产生不平行。

2.晶体片是由晶体棒料切割成片的，切割并不能保证它的平行度。经过第一道工序研磨，只能保证一个平面的平面度，并不能解决它的平行度问题，在研磨第二个面时，晶体片粘附在研磨块上，本身产生倾斜，在研磨过程中研磨块在磨盘上做自动转动，因此不能控制它的倾斜，所以研磨后保证不了它两面的平行度要求。

发明内容

本发明的目的在于提供一种可垂直与平行运动的真空磨具，即真空卡料平行机械手，完成对被研磨抛光材料的平行度有极高要求的技术指标，它是研磨抛光机的配套装置，该装置可满足人工晶体及陶瓷等材料对平行度精密要求高的研磨抛光加工。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的：

可垂直与平行运动的真空磨具包括有平行定位座、真空室、垂直定位滑动轴、垂直定位滑动座、真空联动座、真空转换接头、千分表、支架、弹簧增压室、千分表支架、配重，其垂直定位滑动座与平行定位座相连一体，垂直定位滑动座的中心竖孔与平行定位座的底平面垂直，垂直定位滑动轴与真空联动座及真空室相连一体，垂直定位滑动轴与真空室的平面垂直，真空室平面与平行定位座底平面平行，垂直定位滑动座与平行定位座经周边三根小轴相连，垂直定位滑动轴与真空室、真空联动座经内六角螺钉紧固一起，千分表触头与垂直定位滑动轴的上盘相接。

如上所述的可垂直与平行运动的真空磨具，其垂直定位滑动轴带动真空室在垂直定位滑动座的制约下执行垂直运动，平行定位座带动真空室作摆动和旋转运动，真空联动座与垂直定位滑动轴、真空室同时作垂直下沉运动。

如上所述的可垂直与平行运动的真空磨具，其通过真空帽、真空联动座中间设有小孔直达真空室，支架通过与其上的圆盘连接与垂直定位滑动座固结成架。

本发明的优点与效果是：

本装置平行度加工精密较高，结构简单、紧凑、适用性强，可满足人工晶体及陶瓷等材料研磨抛光的加工。

真空联动座中间的小孔直达真空室，通过真空室上的小孔，将研磨块及晶体片牢牢吸住。克服了粘料剂涂不均匀的缺陷，节省了粘片的时间、节省了石蜡等原材料

附图说明

本发明附图是整体结构示意图。

图中主要部件说明：

1平行定位座、2真空室、3垂直定位滑动轴、4垂直定位滑动座、5真空联动座、6真空转换接头、7千分表、8支架、9弹簧增压室、10千分表支架、11配重。

具体实施方式

下面参照附图对本发明进行详细说明。

本发明类似一种卡样机械手，它是研磨抛光机不可缺少的配套装置。这种装置对被研磨抛光材料的平行度加工有较高的精度。

该装置由垂直定位滑动座4与平行定位座1连为一体；真空室2平面与平行定位座1的底平面平行，且装有一个千分表7在线监视被磨抛材料的减薄数值。垂直定位滑动座4与平行定位座1连为一体，垂直定位滑动座4的孔与平行定位座1的底平面垂直。垂直定位滑动轴3与真空联动座5及真空室2连为一体，垂直定位滑动轴3与真空室2的平面是垂直的。通过真空帽、真空联动座5中间的小孔直达真空室2，通过真空室2上的小孔及环型槽将研磨块及被加工晶体片牢牢吸住。垂直定位滑动轴3带动真空室2在垂直定位滑动座4的制约下只能精确的执行垂直运动。平行定位座1在工作时带动真空室2作摆动和旋转运动，同时真空室又能作垂直下沉运动。真空室2平面与平行定位座1底平面平行。平行定位座1做圆周加摆动平移运动。真空室2F1毫米的气孔向心排列四个。真空室2上下运动加圆周加摆动运动，垂直定位滑动轴3经内六角螺钉与真空室2、真空联动座5紧固一起，其运动与真空室2相同。垂直定位滑动座4与平行定位座1经周边三根小轴相连，运动与平行定位座1相同，真空联动座5为空心轴与真空室2、垂直定位滑动轴3运动一样，真空转换接头6的内轴与真空联动座5均为上下运动，千分表7的触头与垂直定位滑动轴3的上盘相接，用以测定研磨量，支架8通过通过与其上的圆盘连接与垂直定位滑动座4固结成架，弹簧增压室9内设弹簧以保证研磨压力，为将千分表固定住，在垂直定位滑动座4上设有千分表支架10，并设有配重11以使得与千分表重量平衡。当垂直定位滑动轴3带动研磨块及晶片作下沉动作时，由于受到垂直定位滑动座4与平行定位座1的制约、垂直定位滑动轴3只能做垂直的下滑运动，这样吸附在真空室2底平面上的晶体片的高点，就能先接触到研磨盘，先进行研磨直到磨平为止。