[发明专利]工业铝电解槽纯二硼化钛阴极涂层的制备方法

权利要求书

1、一种工业铝电解槽纯二硼化钛阴极涂层的制备方法，将阴极炭块置于专门沉积电解槽中，进行电沉积，电沉积温度为720～820℃，电流密度为0.2～0.9A/cm²，电沉积时间为2～6h，其特征在于所用电解质体系为NaCl-KCl-KF-K₂TiF₆-KBF₄-TiO₂-B₂O₃，其各成分的质量百分含量为：2～15％NaCl，2～5％KCl，35～65％KF，8～18％K₂TiF₆，15～29％KBF₄，1～9％TiO₂和2～13％B₂O₃。

2、一种工业铝电解槽纯二硼化钛阴极涂层的制备方法，将电解共沉积二硼化钛的电解质装到电解槽中，电沉积温度为720℃—820℃，电流密度为0.2-0.9A/cm²，电沉积时间为2～6h，电沉积达到所需厚度0.2-0.8mm，其特征在于所用电解质体系为NaCl-KCl-KF-K₂TiF₆-KBF₄-TiO₂-B₂O₃，其各成分的质量百分含量为：2～15％NaCl，2～5％KCl，35～65％KF，8～18％K₂TiF₆，15～29％KBF₄，5～9％TiO₂和2～13％B₂O₃；当停止电解，将熔融态的电解质抽出，在电解沉积过程中添加NaCl-KCl-KF-K₂TiF₆-KBF₄或NaCl-KCl-KF-TiO₂-B₂O₃，以维持电解质中Ti和B离子的活度以保证Ti、B以1:2的摩尔比共析出；当添加NaCl-KCl-KF-K₂TiF₆-KBF₄时，各成分的质量百分含量为：0～5％NaCl，2～7％KCl，35～65％KF，5～25％K₂TiF₆，15～30％KBF₄；当添加NaCl-KCl-KF-TiO₂-B₂O₃时，各成分的质量百分含量为：2～5％NaCl，2～5％KCl，30～55％KF，15～30％TiO₂，15～30％B₂O₃。