[发明专利]一种氧化锆涂层制备工艺

权利要求书

1.一种氧化锆涂层制备工艺，其特征在于：采用电弧离子镀技术在合金基体或电弧离子镀MCrAlY涂层上沉积ZrO₂或Zr(Y)O₂涂层；利用纯Zr或ZrY合金靶材在O₂气氛内反应沉积ZrO₂或Zr(Y)O₂涂层；

电弧离子镀技术制备ZrO₂涂层工艺参数为：采用纯Zr靶材；真空室的本底真空度为2×10^-3～1×10^-2Pa；对试样表面弧光轰击清洗时在真空室内通入Ar气，压强升至5×10^-2～3×10^-1Pa，加-800～-1000V的高偏压，轰击时间2～5分钟；然后通O₂沉积ZrO₂涂层，氧流量134～400sccm；靶基距230～250mm；基材温度300～400℃；脉冲偏压-100～-300V，占空比20～40％；电弧电压20～40V，电弧电流60～70A；沉积时间根据工件具体要求而定；

电弧离子镀技术制备Zr(Y)O₂涂层工艺参数为：采用ZrY合金靶材；真空室的本底真空度为2×10^-3～1×10^-2Pa；对试样表面弧光轰击清洗时在真空室内通入Ar气，压强升至5×10^-2～3×10^-1Pa，加-800～-1000V的高偏压，轰击时间2～5分钟；然后通O₂沉积Zr(Y)O₂涂层，氧流量134～400sccm；靶基距230～250mm；基材温度300～400℃；脉冲偏压-100～-300V，占空比20～40％；电弧电压20～40V，电弧电流60～70A；沉积时间根据工件具体要求而定。

2.按权利要求1所述的氧化锆涂层制备工艺，其特征在于：该氧化锆涂层应用于Ni基、Co基及γ’-Ni₃Al基高温合金；也应用于电弧离子镀MCrAlY涂层，以质量百分比计，MCrAlY涂层的成分为：Co为0～40％，Cr为15～40％，Al为6～16％，Y为0.1～1％，Si为0～2％，B为0～0.01％，Hf为0～1.5％，Ni为余量。