[发明专利]有机发光显示装置及其制造方法无效
| 申请号: | 200710007253.1 | 申请日: | 2007-01-25 |
| 公开(公告)号: | CN101060131A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
| 发明(设计)人: | 崔东洙;朴镇宇;丁憙星;朴铉淑 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L21/50 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 有机 发光 显示装置 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种有机发光装置,更具体地是涉及有机发光装置的封装。
背景技术
近年来,为了解决例如阴极射线管(CRT)的传统显示装置的问题,平板显示装置(FPD),例如液晶显示装置(LCD)、有机发光显示装置(OLED)、和等离子体显示面板(PDP)广受关注。由于LCD是非发射装置,所以LCD在亮度、对比度、视角和尺寸方面具有技术局限。此外,PDP是发射显示器,但是与其它FPD相比,PDP较重、功耗大、并且制造更为复杂。
另一方面,OLED是在视角和对比度方面杰出的发光装置。因此,与LCD不同,由于无需分离的光源即背光,所以OLED可以制造得轻且薄,并且比CRT功耗低。此外,OLED可以以低直流电压驱动并且具有快的响应时间。此外,由于OLED仅使用固体材料制造,OLED抗外部冲击强,可以用于宽的温度范围,并且制造简单便宜。
发明内容
本发明的一个方面提供了一种有机发光显示装置,其可以包括:包括单层或多层的第一基板;包括单层或多层的第二基板,第二基板包括面对第一基板的内表面;在第一基板上形成并且插入第一和第二基板之间的有机发光像素阵列,所述阵列包括与第二基板的内表面相对的顶表面,其中顶表面和内表面具有位于其间的间隙,并且所述间隙具有在顶表面和内表面之间测量的间隙距离;和互接所述第一和第二基板同时围绕所述阵列的熔料密封,其中第一基板和第二基板组合界定了其中设置所述阵列的封闭空间,其中所述熔料密封具有所述第一和第二基板之间的高度,从而形成大于或等于大约10μm的间隙距离。
在前述装置中,间隙距离可以是大约10至大约300μm。间隙距离可以是大约10至大约100μm。间隙距离可以是大约10至大约30μm。所述阵列可以配置为通过顶表面发出可见光。所述高度可以是第一和第二基板之间的最短距离,其中所述高度是大约10至大约300μm。第二基板可以包括背离第一基板并且配置为在其上显示图像的显示表面,并且其中所述装置配置为在实质无牛顿环的显示表面上显示图像。所述阵列可以包括第一电极、第二电极和在其间插入的至少一有机层,其中第二电极比第一电极更接近于第二基板,并且其中顶表面可以包括面对第二基板的第二电极的表面,其中所述阵列可以包括第一电极、第二电极和在其间插入的至少一有机层,其中第二电极比第一电极更接近所述第二基板,其中所述阵列还可以包括在第二电极上形成的实质透明层,并且其中顶表面可以包括面对所述第二基板的实质透明层的表面。所述间隙可以包括空气间隙。所述间隙可以基本用固体材料填充。熔料密封可以包括从由氧化镁(MgO)、氧化钙(CaO)、氧化钡(BaO)、氧化锂(Li2O)、氧化钠(Na2O)、氧化钾(K2O)、氧化硼(B2O3)、氧化钒(V2O5)、氧化锌(ZnO)、氧化碲(TeO2)、氧化铝(Al2O3)、氧化硅(SiO2)、氧化铅(PbO)、氧化锡(SnO)、氧化磷(P2O5)、氧化钌(Ru2O)、氧化铷(Rb2O)、氧化铑(Rh2O)、氧化铁(Fe2O3)、氧化铜(CuO)、氧化钛(TiO2)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、氧化锑(Sb2O3)、硼酸铅玻璃、磷酸锡玻璃、钒酸盐玻璃和硼硅酸盐玻璃构成的组中所选择的一或多种材料。
本发明的另一方面提供了一种有机发光显示装置,其可以包括:第一基板;包括面对所述第一基板的内表面的第二基板;和在第一基板上形成的有机发光像素阵列,所述阵列包括与第二基板的内表面相对的顶表面,其中所述顶表面和内表面具有位于其间的大约为10至大约300μm的间隙。
在前述装置中,所述装置还可以包括互接第一和第二基板同时围绕所述阵列的熔料密封,其中熔料密封、第一基板和第二基板组合界定其中设置所述阵列的封闭空间。熔料密封具有在第一和第二基板之间的高度,并且其中高度为大约2至大约300μm。
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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