[发明专利]抗静电剂、抗静电膜及抗静电膜被覆物有效
| 申请号: | 200710006980.6 | 申请日: | 2007-01-31 |
| 公开(公告)号: | CN101016447A | 公开(公告)日: | 2007-08-15 |
| 发明(设计)人: | 西冈绫子;大久保隆 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号: | C09K3/16 | 分类号: | C09K3/16;G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 段承恩;田欣 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 抗静电 被覆 | ||
【说明书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昭和电工株式会社,未经昭和电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710006980.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光学记录/再现设备、光学拾波器和跟踪误差检测方法
- 下一篇:滚花针





