[发明专利]包含光学可变粘合剂的防伪器件有效
申请号: | 200710005641.6 | 申请日: | 2007-03-06 |
公开(公告)号: | CN101058285A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
发明(设计)人: | 罗杰·W.·菲利普斯;托马斯·迈尔;斯科特·拉马尔;尼尔·泰勒鲍姆 | 申请(专利权)人: | JDS尤尼弗思公司 |
主分类号: | B44F1/00 | 分类号: | B44F1/00;B44F1/12;G07D7/00;G07D7/12 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人: | 郑小粤 |
地址: | 美国加利福尼亚*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 光学 可变 粘合剂 防伪 器件 | ||
技术领域
[01]本发明通常涉及一种热压技术,更特别地涉及一种将光学器件热印到基片或物品的的热压技术,所述光学装置具有其中包括光效应薄片的热印粘合剂。
相关申请的交叉参考
[02]本申请要求以下申请的优先权:于2006年4月14日提交的美国临时申请号为60/744,842的申请;于2006年3月6日提交的美国临时申请号为60/779,484的申请;于2006年7月24日提交的美国临时申请号为60/832,826的申请;以及于2006年11月29日提交的美国临时申请号为60/861,608的申请。为了达到所有目的,在此通过参考结合此前和此后提及的所有专利和专利申请。
[03]该申请与以下申请有关:于2005年11月15日提交的申请号为11/273,985的申请,该申请作为于2003年9月18日提交的专利申请序列号为10/666,318的部分继续申请,已于2006年1月17日被授权、名称为“图案化反射光学结构(Patterned Reflective Optical Structures”、授权号为6,987,590;于2005年4月20日提交的名称为“图案化反射光学结构(“Patterned ReflectiveOptical Structures”)”的美国临时申请60/673,080;以及于2005年10月25日提交的名称为“具有增强的防伪特性的图案化光学结构(Patterned Optical Structures With Enhanced Security Feature)”的美国临时申请60/729,907;为了达到所有目的,在此通过参考,将它们合部合并入本发明中。
背景技术
[04]此后用到的术语色度区(chromagram)指包括具有图案化或带窗口的基片,以及特殊效应涂层或层的光学结构,该特殊效应涂层或层被该图案化或带窗口的基片支撑或支撑该图案化或有窗口的基片。在美国专利申请公开号20060285184的申请中对各种设计的色度区作了描述,并且其被用作防伪器件或用于增强产品的安全性和它们的美学要求。
[05]一种类型的色度区是这样一种光学结构:它显示诸如全息图或衍射光栅的表面浮雕图案(surface relief patterns)效应和诸如字母数字字符、条形码、或图形或图像设计的图案的效应,以及这种图案的周围区域内的附加光学效应。以Argoitia等人名义于2006年4月13日公开的美国专利申请公开号为20060077496的申请中对这种结构作了描述,在此后称作‘496。在以菲利普斯等人名义申请的美国专利申请公开号为20050128543的申请中对另一种色度区类型结构作了描述。在‘496中,具有窗口区域的图案化基片被光学可变(OV)涂层或光学可变油墨涂覆,通过这些窗口可以看到光学可变涂层或光学可变油墨。为了达到所有意图和目的,在此通过参考,将此前和此后描述的所有参考文件全都合并入本发明中。
[06]使用术语“图案化”层,意味着将反射、不透明、或部分透射层以形成预期“图案”或设计的方式加到基片上,该基片可以是平面的或是在其内具有表面浮雕图案。作为非限制性的例子,图案化的反射层可以形成字母、数字、条形码和/或图形或图像设计的形状。
[07]在美国专利5,314,767,6,616,190和7,081,819中描述了一种表面浮雕图案—脱金属化(demetalized或demet)全息图。为了增强全息图的安全性和为了防止制造接触晒印,开发了一种用于通过脱金属处理制造全息图的技术。脱金属化全息图和补片被用在护照和身份证中以保护照片和数据。
[08]虽然不限于此,但是本发明主要涉及下面类型的色度区:由其中具有薄片和/或着色剂的光和,或,磁效应热印粘合剂制造而成的色度区。对此前提及的用于将两个基片粘合到一起(其中通过一个基片可以看到另一个)的粘合剂的期望质量是需要该粘合剂是基本透明的并具有所需的粘结性能。因此,目标变为一种粘合剂,该粘合剂“看上去”是尽可能不可见的,并且基本上与用它粘合的基片的折射率匹配,从而基本上不影响光从中通过。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JDS尤尼弗思公司,未经JDS尤尼弗思公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710005641.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。