[发明专利]溅镀靶材的制造方法有效
| 申请号： | 200710001003.7 | 申请日： | 2007-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN101224496A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | 李仲仁;赵勤孝 | 申请（专利权）人： | 光洋应用材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B22F3/16 | 分类号： | B22F3/16;C23C14/34 |
| 代理公司： | 天津三元专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 胡畹华 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅镀靶材 制造 方法 | ||
1.一种溅镀靶材的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
将靶材原料粉末置入模具中，在温度范围于850℃至1400℃之间，而压力范围于3500～8000磅/平方英寸(psi)之间的情形下，进行120～180分钟的热压方式进行烧结以形成初胚；
将上述的初胚在温度与压力分别为800～1100℃、22000～26000磅/平方英寸的情况下进行150～180分钟的热均压，以得到溅镀靶材。
2.根据权利要求1所述的溅镀靶材的制造方法，其特征在于所述靶材原料是纯钌，其在热压过程中的温度是在1150～1400℃，而压力是在4000～8000磅/平方英寸(psi)。
3.根据权利要求1所述的溅镀靶材的制造方法，其特征在于所述靶材原料为Co、Cr、Pt、TiO2以制作出Co-Cr-Pt-TiO2的合金靶材，其在热压过程中的温度是在1100～1275℃，而压力在4000～8000磅/平方英寸(psi)。
4.根据权利要求1所述的溅镀靶材的制造方法，其特征在于所述靶材原料为Co、Cr、Pt、SiO2以制作出Co-Cr-Pt-SiO2的合金靶材，其在热压过程中的温度是在1000～1200℃，而压力在3500～8000磅/平方英寸(psi)。
5.根据权利要求1所述的溅镀靶材的制造方法，其特征在于所述靶材原料为Co、Cr、Pt、B及SiO2以制作出Co-Cr-Pt-B-SiO2的合金靶材，其在热压过程中的温度是在850～1100℃，而压力在3500～8000磅/平方英寸(psi)。
6.一种溅镀靶材的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
将靶材原料粉末混合，然后置入模具中，以热压方式进行烧结以形成初胚，该初胚不具有开放性孔洞；
将上述的初胚进行热均压处理，热均压处理时不需封罐，得到最终溅镀靶材的密度不小于理论密度的96％，其中该靶材材料选自Co基合金、钌、钌基合金或Cr基合金。
7.根据权利要求6所述的溅镀靶材的制造方法，其特征在于包括以下步骤：
将靶材原料粉末置入模具中，在温度范围于850℃至1400℃之间，而压力范围于3500～8000磅/平方英寸(psi)之间的情形下，进行120～180分钟的热压方式进行烧结以形成初胚；
将上述的初胚在温度与压力分别为800～1100℃、22000～26000磅/平方英寸的情况下进行150～180分钟的热均压，以得到溅镀靶材。
8.根据权利要求7所述的溅镀靶材的制造方法，其特征在于所述靶材原料是纯钌，其在热压过程中的温度是在1150～1400℃，而压力是在4000～8000磅/平方英寸(psi)。
9.根据权利要求7所述的溅镀靶材的制造方法，其特征在于所述靶材原料为Co、Cr、Pt、TiO2以制作出Co-Cr-Pt-TiO2的合金靶材，其在热压过程中的温度是在1100～1275℃，而压力在4000～8000磅/平方英寸(psi)。
10.根据权利要求7所述的溅镀靶材的制造方法，其特征在于所述靶材原料为Co、Cr、Pt、SiO2以制作出Co-Cr-Pt-SiO2的合金靶材，其在热压过程中的温度是在1000～1200℃，而压力在3500～8000磅/平方英寸(psi)。
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