[发明专利]具弹性定位结构的洁净容器

说明书

技术领域

本发明涉及一种洁净容器的定位结构，特别是涉及一种应用于洁净容器中，对脆性材料平板件弹性推顶定位的定位结构。

背景技术

对于一般洁净容器而言，不论是掩模盒、晶片盒或其玻璃基板盒，其内部通常容置有掩模、晶片或玻璃基板，而掩模、晶片或玻璃基板对超高洁净储放环境的要求极高，以现今的半导体工艺需求须达Class 1以上，须严格防止受到微细粉尘颗粒的污染与静电或静电场的影响，也因此，掩模、晶片或玻璃基板在一般半导体或平面显示器制造厂中，必然在一超高洁净无尘环境中进行其制程。此洁净容器即扮演掩模、晶片或玻璃基板在半导体或平面显示器工艺流程中，传送、载卸与储放过程，确保掩模、晶片或玻璃基板处于符合工艺洁净需求的环境。

如美国专利公开公报的US 2004/0004704，请参考图1A所示掩模盒公知技术的俯视剖面图、图1B所示的图1A的A-A剖面示意图以及图2A至图2D所示的掩模盒公知技术的硬顶抵掩模的示意图。以掩模盒为例，其内部所容置的掩模必须定位于掩模盒的底座上，以避免传送、载卸与储放过程中掩模在掩模盒内产生移动而因此产生摩擦的问题。传统的作法，会在掩模盒的底座10上表面凸设有一挡板11提供掩模14定位，并再于掩模盒的上盖12制作出导引肋13及其上的斜面131，之后再以上述斜面131顶推掩模盒内的掩模14而使其抵靠于挡板11上，并因此将掩模14定位。但是，上述公知技术的斜面131没有弹性设计，其会直接顶抵于掩模14上，故当其顶推掩模盒内的掩模14时，极有可能因直接强硬的碰撞接触磨擦而产生微细粉尘颗粒及产生静电而污染掩模14。

另外，上述公知的斜面也没有导电的设计，使得掩模的静电无法导通至掩模盒外部。

发明内容

本发明的目的在于提供一种具弹性定位结构的洁净容器，在洁净容器的盖体螺设或在洁净容器的盖体内面上组设具有弹性推顶并定位脆性材料平板件，并可导通脆性材料平板件的静电至洁净容器外部的定位结构，来解决上述公知技术中的各种问题。

为了实现上述目的，本发明提供了一种具弹性定位结构的洁净容器，包括：一座体、一盖体及一定位件，座体具有一上表面、数个支撑组件、数个侧部定位组件与数个后部定位组件，盖体紧密罩盖于座体上，其具有一顶板，顶板具有一上表面与一下表面，定位件组设于下表面，其具有一本体，本体一前端分别向两外侧延伸有一第一弹性臂与一第二弹性臂，第一弹性臂与第二弹性臂的端面分别形成一推顶面。

上述洁净容器中，顶板还可具有至少一贯穿孔通上表面与下表面，本体顶面具有至少一螺柱对应于螺孔，且上表面还包括螺设一取付板，取付板通过一螺栓穿过顶板的贯穿孔连接于定位件的螺柱。

上述洁净容器中，顶板下表面具有一第一卡合组件，且在定位件的本体顶面具有对应于第一卡合组件的一第二卡合组件，第一卡合组件与第二卡合组件组成一卡合结构以嵌合组设定位件于盖体的下表面。而上述第一卡合组件为至少一凹槽，且第二卡合组件为对应于凹槽的一凸柱；或为反向设置，第一卡合组件为至少一凸柱，且第二卡合组件为对应于凸柱的一凹槽。

上述洁净容器的第一弹性臂与第二弹性臂的端面，可分别形成一定位面。而定位件的后端，可分别向两外侧延伸有一第三弹性臂与一第四弹性臂并在其底面分别设有凸缘，在第三弹性臂与第四弹性臂端面外侧分别设有一定位斜面。再有，上述的定位件还可在后端形成一扣臂，扣臂具有一对向下的凹槽，以对应于后部定位组件，可在盖体与座体闭合时提供定位件将静电经座体导引接地的功能，及固定定位件。

实施上述本发明的具定位结构的洁净容器的功效为：本发明以定位件的数个弹性臂上的推顶面及定位面，弹性的推顶定位脆性材料平板件并同时导正其角度，解决公知技术的直接硬接触磨擦顶脆性材料平板件而产生微细粉尘颗粒而污染掩模的问题，且本发明的定位件除推顶脆性材料平板件予以定位之外，还可进一步在脆性材料平板件上形成一持续的、平稳的、具弹性的压力，在搬移洁净容器时，对脆性材料平板件产生较佳的紧固作用，另外本发明的洁净容器的定位件、盖体及座体俱为导电材料，可将脆性材料平板件的静电导出至洁净容器外部，避免脆性材料平板件累积静电后，有静电放电造成损坏的问题。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1A为掩模盒公知技术的俯视剖面图；

图1B为图1A的A-A剖面示意图；

图2A至图2D为掩模盒公知技术的硬顶抵掩模的示意图；

图3为本发明具弹性定位结构的洁净容器实施例的立体分解图；

图4为图3的A局部放大示意图；