[发明专利]标记玻璃类基材面的方法、上述类基材及用于该方法的标记工具

权利要求书

1.标记玻璃基材(1，1′)的面(1a，1′a)的方法，其特征在于它包 括通过与由标记材料制成的表面(41)进行机械接触，机械标记在给 定粘度的粘稠状态的玻璃基材(1，1′)的面(1a，1′a)，所述标记是使 用由所述标记材料制成的有弯曲外表面(41)的标记工具(40、40′) 进行的，以泊定义的基材粘度的十进制对数被选择大于4并小于或等 于11，基材是平的并能平移移动，由标记材料制成的表面与基材面之 间的相对速度不是零，所述玻璃基材(1，1′)以给定速度行进，并且 使用该标记工具(40、40′)进行标记，该标记工具的直线或切线速度 超过基材速度。

2.根据权利要求1所述的标记方法，其特征在于以泊定义的基材 (1，1′)的粘度的十进制对数选择为4.5-8。

3.根据权利要求2所述的标记方法，其特征在于以泊定义的基材 (1，1′)的粘度的十进制对数选择为5.5-6.5。

4.根据权利要求1所述的标记方法，其特征在于该标记允许得到 精细的不规则图案，该图案通过小于或等于10μm的粗糙度参数Ra， 和/或大于或等于2°的粗糙度参数Rdq进行限定，这里使用0.8mm的 高斯滤波器，扫描长度为3或5mm，同时节距为5μm。

5.根据权利要求4所述的标记方法，其特征在于粗糙度参数Ra 为小于或等于5μm。

6.根据权利要求4所述的标记方法，其特征在于标记使基材 (1，1′)具有模糊和/或亚光外观。

7.根据权利要求1-6中任一项权利要求所述的标记方法，其特 征在于在已经具有凹陷和/或凸起的不规则图案的面上进行标记。

8.根据权利要求7所述的标记方法，其特征在于所述不规则图案 为几何图案。

9.根据权利要求1-6中任一项权利要求所述的标记方法，其特 征在于表面是研磨的和/或经喷砂处理的，和/或标记材料以一种或多 种陶瓷为基(41)。

10.根据权利要求9所述的标记方法，其特征在于标记材料是陶 瓷的层(41)。

11.根据权利要求10所述的标记方法，其特征在于标记材料是显 微结构化的研磨组织。

12.根据权利要求1-6中任一项权利要求所述的标记方法，其特 征在于表面(41)是以一种或多种陶瓷为基的层，其硬度大于或等于 500Hv。

13.根据权利要求1-6中任一项权利要求所述的标记方法，其特 征在于表面(41)是以一种或多种陶瓷为基的层，陶瓷选自一种或多 种以下材料：锆酸镁、氧化铝氧化锆、碳化铬、碳化钨、氧化铬。

14.根据权利要求13所述的标记方法，其特征在于陶瓷为基的层 是多层。

15.根据权利要求1-6中任一项权利要求所述的标记方法，其特 征在于面(1a，1′a)是平的。

16.根据权利要求1-6中任一项权利要求所述的标记方法，其特 征在于它包括在所述标记之后连续形成与玻璃基材(1，1′)相应的薄 片的步骤。

17.根据权利要求1-6中任一项权利要求所述的标记方法，其特 征在于在经过玻璃缓冷炉或退火炉之前进行标记。

18.根据权利要求1-6中任一项权利要求所述的标记方法，其特 征在于它包括通过轧制形成所述玻璃基材(1，1′)的薄片的步骤，接 着连续地进行所述标记。

19.根据权利要求1-6中任一项权利要求所述的标记方法，其特 征在于它包括通过轧制形成所述玻璃基材(1，1′)的薄片的步骤，该 轧制印花该薄片，接着连续地进行所述标记。

20.根据权利要求18所述的标记方法，其特征在于基材(1，1′) 的面(1a，1′a)的温度上升后进行该方法。