[发明专利]制备导电图的方法及使用该方法制备的导电图

说明书

技术领域

本发明涉及一种制备导电图的方法及由其制备的导电图，所述方法充分黑化所述导电图，降低方块电阻，以及使导电图易于黑化处理，从而提高生产力以及降低生产成本。

本申请要求了2005年12月16日提交的韩国专利申请号10-2005-0124866的优先权，其全部内容在此引用作为参考。

背景技术

通常，术语“显示器件”泛指TV、电脑等的监视器，并且包括：包含用于成像的显示板的显示器组件；以及用于支撑所述显示器组件的壳体。

该显示器组件包括：用于成像的如CRT(阴极射线管)、LCD(液晶显示)和PDP(等离子显示板)的显示板；用于驱动所述显示板的电路板；以及设置在所述显示板前面的滤光器。

该滤光器包括：用于防止从外界入射的外界光再次向外反射的抗反射膜；用于屏蔽显示板中产生的近红外线以避免如遥控器的电子仪器的操作不当的近红外线屏蔽膜；通过掺入颜色调节染料控制色调而用于提高颜色纯度的色彩校正膜；以及用于屏蔽在驱动显示器件时在显示板中产生的EMI(电磁干扰)的EMI(电磁干扰)屏蔽膜。

在此处所用的EMI(电磁干扰)屏蔽膜包括：由透明材料制成的基板；以及通过光刻蚀法形成图案的由金属材料制成的导电图，该金属材料具有极好的电导性，例如银和铜。

因为该导电图为高光泽金属材料，反射从外界入射的光，或者反射显示板中的镜像光，这会引起对比率降低。同样，为了抑制这种作用，导电图的表面通常经过黑化处理。即，导电图通常被黑化。

对于导电图的黑化处理，韩国专利申请公开号2004-0072993公开了一种通过光刻蚀法在金属箔上形成网孔之后使用如浓硝酸的化学制品黑化处理网孔的方法。

此外，日本专利申请公开号2001-210988公开了一种使用浓硝酸在通过光刻蚀法形成在网孔上的表面黑化处理的方法。

然而，导电图的黑化处理方法具有如下问题：在形成导电图之后，该导电图需要用浓硝酸处理，导致破坏其可使用性。

而且，如果黑化导电图，存在的问题为处理时间太长，并且不能达到充分的黑化程度。此外，还存在影响屏蔽EMI(电磁干扰)能力的导电图的方块电阻会增加的问题。

发明内容

技术问题

本发明的一个目的是提供一种制备导电图的方法及由该方法制备的导电图，在所述方法中，充分黑化导电图，降低方块电阻，以及使导电图易于黑化处理，从而提高生产力以及降低生产成本。

技术方案

为了克服上述问题，本发明的一个实施方式提供一种制备导电图的方法，包括：在基板上形成导电图的图案形成步骤；以及黑化处理步骤，所述黑化处理步骤通过在含有还原金属离子的水溶液中浸渍导电图以氧化导电图的表面而黑化导电图的表面。

具体地，本发明提供了一种制备导电图的方法，所述制备导电图的方法包括：通过在基板上直接印刷含有银(Ag)粉的导电糊膏而形成银(Ag)导电图的图案形成步骤；以及黑化处理步骤，所述黑化处理步骤通过在含有还原金属离子的水溶液中浸渍所述导电图以氧化该导电图的表面而黑化导电图的表面，所述含有还原金属离子的水溶液为含有Fe或Cu离子作为还原金属离子的水溶液。

本发明的另一实施方式提供一种由上述制备方法制备的导电图。

本发明的又另一实施方式提供一种包括上述导电图的EMI(电磁干扰)屏蔽膜。

本发明的又另一实施方式提供一种用于包括上述EMI(电磁干扰)屏蔽膜的显示器件的滤光器。

本发明的又另一实施方式提供一种导电图，所述导电图包括：在基板上形成的导电图层；以及通过在含有还原金属离子的水溶液中浸渍导电图层以氧化导电图层的表面而在导电图层的表面上形成的黑化层。

具体地，本发明提供了一种导电图，所述导电图包括：通过在基板上直接印刷含有银(Ag)粉的导电糊膏而形成的银(Ag)导电图层；以及通过在含有还原金属离子的水溶液中浸渍所述导电图层以氧化导电图层的表面而在所述导电图层的表面上形成的黑化层，所述含有还原金属离子的水溶液为含有Fe或Cu离子作为还原金属离子的水溶液。

本发明的又另一实施方式提供一种包括上述导电图的EMI(电磁干扰)屏蔽膜。

在下文，将详细描述本发明。

在本发明的一个实施方式中，所述制备导电图的方法包括：在基板上形成导电图的图案形成步骤；以及黑化处理步骤，所述黑化处理步骤通过在含有还原金属离子的水溶液中浸渍导电图以氧化导电图的表面而黑化导电图的表面。