[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包含：

基板保持机构，其以使基板的一侧表面朝向上方的姿势保持基板；

冲洗液供给机构，其用于向该基板保持机构所保持的基板的所述一侧表面供给冲洗液；

基板倾斜机构，其用于使所述基板保持机构所保持的基板从所述一侧表面沿着水平面的水平姿势以非旋转状态倾斜为所述一侧表面相对水平面以规定角度倾斜的倾斜姿势；

基板干燥装置，其用于使所述基板保持机构所保持的基板的表面干燥，

控制装置，其控制所述冲洗液供给机构以及所述基板倾斜机构，将通过所述基板保持机构而保持为水平的基板的所述一侧表面的一部分或者整个区域，用由所述冲洗液供给机构供给的冲洗液的液膜覆盖，此后，通过所述基板倾斜机构使所述基板倾斜。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板倾斜机构以使该一侧表面上的冲洗液在该一侧表面上呈液块的状态不变而向下方移动并将其排除的方式，并以使在所述基板的一侧表面上移动的所述液块的后缘以每秒3～20毫米的速度移动的方式使基板倾斜。

3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还包含有抵接构件，所述抵接构件在通过所述基板倾斜机构而使基板倾斜时，与所述倾斜姿势的基板的下方一侧端面相抵接；从基板流下的冲洗液沿着所述抵接构件流下。

4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制装置还控制所述基板干燥装置，在通过所述基板倾斜机构使所述基板倾斜从而使冲洗液从所述基板保持机构所保持的基板的所述一侧表面排除之后，通过所述基板干燥装置使基板上的液体成分干燥。

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板干燥装置包含基板旋转装置，所述基板旋转装置使所述基板保持机构所保持的基板旋转，

所述控制装置在使基板干燥时，通过所述基板旋转装置使所述基板旋转，从而将在该基板的端面上残留的液滴甩掉。

6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制装置在通过所述基板倾斜机构使所述基板倾斜从而使冲洗液从所述一侧表面排除之后，通过所述基板倾斜机构使基板从倾斜姿势恢复至水平姿势，此后，通过所述基板旋转装置使基板旋转，将在该基板的端面上残留的液滴甩掉。

7.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板干燥装置包含有红外线产生装置，所述红外线产生装置用于向所述基板保持机构所保持的基板照射红外线。

8.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还包含有惰性气体供给机构，所述惰性气体供给机构用于向所述基板保持机构所保持的基板的所述一侧表面供给惰性气体，

所述控制装置还控制所述惰性气体供给机构，在使基板倾斜而将冲洗液从该一侧表面排除时，在所述基板的一侧表面上向至少冲洗液被排除的区域供给来自所述惰性气体供给装置的惰性气体。

9.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，还包含：遮断构件，其具有能够与所述基板保持机构所保持的基板的所述一侧表面接近而配置的基板相对面；遮断构件移动机构，其使该遮断构件与所述基板保持机构所保持的基板的所述一侧表面接近或者相背离；所述控制装置还控制所述遮断构件移动机构，在将来自所述惰性气体供给装置的惰性气体供给至所述基板的一侧表面上时，控制所述遮断构件移动机构，使得所述遮断构件的基板相对面配置在与所述基板的一侧表面相接近的规定位置上。

10.如权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，还包含有遮断构件倾斜机构，所述遮断构件倾斜机构在通过所述基板倾斜机构使基板倾斜时，使所述遮断构件倾斜，以使所述基板相对面按照该基板的倾斜而倾斜。

11.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还包含有冲洗液补给机构，所述冲洗液补给机构向通过所述基板倾斜机构而成为倾斜姿势的基板的所述一侧表面上的冲洗液中重新供给冲洗液。