[发明专利]光刻设备

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

阻挡构件，所述阻挡构件设置用于在投影系统和衬底之间围成空隙并且至少部分地将液体限制在所述空隙中，所述阻挡构件包括：

抽取器，所述抽取器用于将液体从所述阻挡构件和所述衬底之间去除，以及

板，所述板设置在所述抽取器和所述衬底之间，以使得对所述空隙开放的第一通道形成于所述抽取器和所述板之间，并且使对所述空隙开放的第二通道形成于所述板和所述衬底之间，

所述第一通道和第二通道沿径向方向相对于所述设备的光轴延伸，其特征在于，所述第一通道和第二通道在所述径向方向上延长。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一通道比第二通道窄。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一通道沿径向向外的方向变窄。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二通道沿径向向外的方向变宽。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，其中所述板具有弯月面锁定特征，使其积极地防止粘附到所述弯月面锁定特征上的弯月面在所述弯月面锁定特征的径向向外处移动。

6.根据权利要求5所述的设备，其中所述弯月面锁定特征包括端口，所述端口设置成连接到负压源、过压源，或者这两者，以在所述弯月面上产生气流。

7.根据权利要求6所述的设备，其中端口围绕整个阻挡构件延伸。

8.根据权利要求7所述的设备，其中所述端口包括多个独立可控部分，以使得所述端口的一部分接通负压，而另一部分接通过压。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，其中，提供在所述板的底表面和衬底之间的距离的台阶式变化，以使得为了越过台阶，定位在所述板的下面并且在所述板和衬底之间延伸的弯月面的长度极大增加。

10.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其中，沿着所述板的底部提供台阶，使得所述板的外底部要比所述板的底表面的沿径向向内部分低。

11.根据权利要求10所述的设备，设置成使得液体与所述台阶沿径向向外的底表面成大于45°的接触角。

12.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其中所述板具有径向最内的底部边缘，所述边缘的半径小于0.1mm。

13.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其中所述板在其下侧上其表面性能沿径向向外的方向由疏液性变为亲液性。

14.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其中所述板在其下侧上其表面粗糙度沿径向向外的方向由相对粗糙变到相对平滑。

15.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其中抽取器包括多孔材料，通过所述多孔材料去除所述液体。

16.根据权利要求15所述的设备，其中所述多孔材料沿径向方向延伸，且抽取器的抽取能力设置成在使用中随着所述多孔材料被液体覆盖的面积的增加而增加。

17.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其中板可在与所述衬底的上表面大致平行的平面内移动。

18.根据权利要求17中所述的设备，进一步包括控制器，所述控制器适用于控制所述板沿与衬底被移动方向基本相同的方向相对于投影系统的移动，其中所述板的移动速度在衬底移动的至少一部分期间等于或小于衬底速度的两倍。

19.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，还进一步包括位于板的表面中、设置成与所述衬底相面对的入口、出口、或者这两者。

20.根据权利要求19中所述的设备，其中所述入口、出口或者这两者设置成连接到低压源、高压源、或者这两者，以产生在所述板和衬底之间的涡流。

21.根据权利要求20中所述的设备，设置成为入口、出口或者这两者提供0.5到1.0个大气压之间的压力，所述压力低于所述板和衬底之间的液体的压力。

22.根据权利要求19所述的设备，进一步包括在所述板表面上的弯月面锁定特征，并且该弯月面锁定特征位于所述入口、出口或者这两者沿径向向外的位置处。