[发明专利]再生废FCC催化剂的方法与装置

权利要求书

1.使用具有下端和上端的再生器容器再生废FCC催化剂的方法， 其中所述方法包括：

在所述再生器容器内形成含有催化裂化催化剂颗粒的密相催化剂 区，该区位于所述下端处，所述下端在位于所述上端的稀相催化剂区下 方；

通过在所述密相催化剂区的高速中心区内引入高表观速度的含氧 流化气体物流和通过向所述密相催化剂区的低速环形区内引入低表观 速度的含氧流化气体物流，在所述密相催化剂区内形成所述高速中心区 和所述低速环形区，其中所述高表观速度的含氧流化气体物流的气速范 围为2-20ft/s，其中所述低表观速度的含氧流化气体物流的气速范围为 0.1-3ft/s，并且其中所述高表观速度的含氧流化气体物流的表观速度 大于所述低表观速度的含氧流化气体物流的表观速度，其中所述高速中 心区的催化剂颗粒以通常向上的方向移动，和其中所述低速环形区的催 化剂颗粒以通常向下的方向移动，从而诱导催化裂化催化剂颗粒在所述 密相催化剂区内循环；

将废催化裂化催化剂引入到所述密相催化剂区内的所述高速中心 区内；

从所述密相催化剂区内的所述低速环形区内除去再生的催化裂化 催化剂；和

从所述再生器容器的所述上端除去废气；

其中密相催化剂区是开放的且不存在垂直隔板设备或挡板设备或 其它类似类型的结构元件来分离密相催化剂区成一个以上流化区。

2.权利要求1的方法，进一步包括：控制所述高表观速度的流化 气体物流引入到所述中心区内以提供高的表观速度，和控制所述低表观 速度的流化气体物流引入到所述环形区内以提供低表观速度，其方式使 得在所述密相催化剂区内形成所述高速中心区和所述低速环形区。

3.权利要求1的方法，其中所述高速中心区的中心区截面积提供 范围为3-15ft/s的高表观气速到所述高速中心区内，和所述低速环形 区的环形区截面积提供范围为0.3-2ft/s的低表观气速到所述环形区 内。

4.权利要求1的方法，其中所述密相催化剂区具有通过所述再生 器容器确定的密相催化剂区截面积，和其中所述高速中心区的截面积与 所述密相催化剂区的截面积之比在0.1-0.5范围内，和其中所述低速环 形区的截面积与所述密相催化剂区的截面积之比在0.5-0.9范围内。

5.权利要求1的方法，其中所述高速中心区包括底端和顶端，和 其中所述引入步骤中的所述废催化裂化催化剂被引入到所述高速中心 区的所述底端内并在所述密相催化剂区内与从所述低速环形区循环到 所述高速中心区内的催化剂混合。

6.用于再生废FCC催化剂的装置，其中所述装置包括：

具有下端和上端并确定再生区的再生器容器，所述再生区能包括朝 所述下端设置的密相催化剂区，所述下端在朝所述上端设置的稀相催化 剂区下方；

高速流化设备，以供引入高表观速度的气体物流到所述密相催化剂 区的中心区内，和控制设备，用于控制所述高表观速度的气体物流到所 述密相催化剂区的中心区内的流量，其中所述高表观速度的气体物流的 气速范围为2-20ft/s；

低速流化设备，以供引入低表观速度的气体物流到所述密相催化剂 区的环形区内，和控制设备，用于控制所述低表观速度的气体物流到所 述密相催化剂区的环形区内的流量，其中所述低表观速度的气体物流的 气速范围为0.1-3ft/s；

废催化剂引入设备，以供在所述密相催化剂区的所述中心区内引入 废催化裂化催化剂；

再生催化剂除去设备，以供从所述密相催化剂区的所述环形区中除 去再生的催化裂化催化剂；和

废气除去设备，以供从所述再生器容器的稀相催化剂区中除去废 气；

其中密相催化剂区是开放的且不存在垂直隔板设备或挡板设备或 其它类似类型的结构元件来分离密相催化剂区成一个以上流化区。

7.权利要求6的装置，进一步包括：

高速流化气体流量控制设备，用于控制所述高表观速度的气体物流 进入所述密相催化剂区的所述中心区内。