[发明专利]MEMS扫描仪系统和方法

权利要求书

1.一种用于偏转入射激光束的显微机械加工的机电系统(MEMS)扫描仪系统，所述MEMS扫描仪系统包括：

MEMS镜(26)，所述MEMS镜(26)可用于接收入射激光束并生成反射的激光束；以及

不透明板(28)，所述不透明板(28)具有孔径(30)，且所述不透明板(28)与所述MEMS镜(26)相对；

其中：所述孔径(30)的尺寸确定为允许所述入射激光束和所述反射的激光束穿过所述孔径(30)。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于：所述MEMS镜(26)安装在MEMS镜平面(24)内，且所述不透明板(28)与所述MEMS镜平面(24)成角度。

3.如权利要求1所述的系统，其特征在于：所述不透明板(28)具有与所述MEMS镜平面(24)所成的介于约-10度与+10度之间的安装角。

4.如权利要求1所述的系统，其特征在于：所述MEMS镜平面(24)具有吸收层。

5.如权利要求1所述的系统，其特征在于：所述不透明板(28)用不透明材料制成，且所述孔径(30)是孔。

6.如权利要求1所述的系统，其特征在于：所述不透明板(28)包括透光板，所述透光板具有涂覆部分(46)和未涂覆部分(48)，且所述未涂覆部分(48)形成所述孔径(30)。

7.如权利要求1所述的系统，其特征在于：所述不透明板(28)具有吸收层。

8.如权利要求6所述的系统，其特征在于：所述吸收层是碳黑。

9.如权利要求1所述的系统，其特征在于：所述孔径(30)具有选自由矩形、正方形、圆角矩形和运动场形所组成的组的形状。

10.如权利要求1所述的系统，其特征在于：所述孔径(30)的尺寸确定为允许所述入射激光束和所述反射的激光束穿过所述孔径(30)，而并不干涉。

11.如权利要求1所述的系统，其特征在于：所述入射激光束和所述反射的激光束在所述孔径(30)内限定行进区域(32)，且所述孔径(30)的尺寸是所述行进区域(32)的尺寸。

12.如权利要求1所述的系统，其特征在于：所述入射激光束和所述反射的激光束在所述孔径(30)内限定行进区域(32)，且所述孔径(30)在所述行进区域(32)之外延伸约1至5毫米。

13.一种用于减少显微机械加工的机电系统(MEMS)扫描仪中的杂散光的方法，所述方法包括：

提供MEMS镜；

安装不透明板，所述不透明板具有与所述MEMS镜相对的孔径，以及

引导入射激光束穿过所述孔径到达所述MEMS镜上，以作为反射的激光束穿过所述孔径从所述MEMS镜反射。

14.如权利要求12所述的方法，其特征在于：所述安装包括以与所述MEMS镜的MEMS镜平面所成的非零安装角来安装不透明板。

15.如权利要求12所述的方法，其特征在于：还包括阻挡来自所述MEMS镜的杂散光。

16.如权利要求12所述的方法，其特征在于：还包括减少来自所述不透明板的反射。

17.一种用于减少显微机械加工的机电系统(MEMS)扫描仪中的杂散光的系统，所述系统包括：

MEMS镜；

用于安装的装置，所述用于安装的装置用于安装具有与所述MEMS镜相对的孔径的不透明板；以及

用于引导入射激光束穿过所述孔径到达所述MEMS镜上以作为反射的激光束穿过所述孔径从所述MEMS镜反射的装置。

18.如权利要求16所述的系统，其特征在于：所述用于安装的装置包括用于以与所述MEMS镜的MEMS镜平面所成的安装角来安装不透明板的装置。

19.如权利要求16所述的系统，其特征在于：还包括用于阻挡来自所述MEMS镜的杂散光的装置。

20.如权利要求16所述的系统，其特征在于：还包括用于减少来自所述不透明板的反射的装置。