[发明专利]沉积高品质反射涂层的方法和设备

权利要求书

1、在玻璃片上沉积膜的方法，该方法包括：

a)提供涂布机，其具有延伸通过涂布机的基底行进通道，该涂布机包括 设置在基底行进通道之上的向下涂覆设备；

b)以通常水平的方向沿着基底行进通道传送玻璃片，其中玻璃片的顶部 主表面定向朝上，且玻璃片的底部主表面定向朝下；并且

c)操作向下涂覆设备以在玻璃片的顶部主表面沉积涂层，从玻璃片的顶 部主表面向外，该涂层包括顺序的至少七个膜区域，所述七个膜区域包括 第一透明介电膜区域、包含银的第一红外反射膜区域、第二透明介电膜区 域、包含银的第二红外反射膜区域、第三透明介电膜区域、包含银的第三 红外反射膜区域和第四透明介电膜区域；

该方法包括在玻璃片单次通过涂布机的过程中沉积所述至少七个膜区 域，且其中在此单次通过的过程中，所述玻璃片以超过275英寸每分钟的 传送速度传送。

2、权利要求1的方法，其中所述涂布机具有向上溅射区和向下溅射区， 向上溅射区的特征是一系列下部靶设置在比基底行进通道低的高度，向下 溅射区的特征是一系列上部靶设置在比基底行进通道高的高度，其中，在 向上溅射区的所有溅射室中保持氧化溅射气氛，且其中在向下溅射区的多 个溅射室中保持氮化溅射气氛，所述方法包括在氧化气体中向上反应性地 溅射所有下部靶，并在氮化气体中向下反应性地溅射多个上部靶。

3、权利要求1的方法，其中所述传送速度为300英寸每分钟或更快。

4、权利要求1的方法，其中所述红外反射膜区域通过在平均功率超过 8.5kW下溅射含银的靶来沉积。

5、权利要求1的方法，其中所述传送速度为310英寸每分钟或更快， 所述红外反射膜区域通过溅射含银的靶来沉积，且至少一个含银的靶在超 过12kW的功率下溅射。

6、权利要求1的方法，其中所述红外反射膜区域通过溅射含银的靶来 沉积，在沉积第一红外反射膜区域中使用第一功率水平来溅射含银的靶， 在沉积第二红外反射膜区域中使用第二功率水平来溅射含银的靶，在沉积 第三红外反射膜区域中使用第三功率水平来溅射含银的靶，第三功率水平 大于第二功率水平，且第二功率水平大于第一功率水平。

7、权利要求1的方法，其中所述涂布机具有延伸的溅射室系列，并包 括设置在基底行进通道下面的向上涂覆设备，该向上涂覆设备包含设置在 比基底行进通道的高度低的下部溅射靶，向下涂覆设备包含设置在比基底 行进通道的高度高的上部溅射靶，其中所述涂布机的延伸的溅射室系列包 括至少39个均包括至少一个上部溅射靶的向下溅射室。

8、权利要求7的方法，其中所述涂布机的延伸的溅射室系列包括至少 55个溅射室。

9、权利要求7的方法，其中操作向下涂覆设备以在玻璃片的顶部主表 面上沉积所述涂层，该方法包括：在所述玻璃片的顶部主表面与第一红外 反射膜区域之间沉积至少50埃的透明介电膜；在第一和第二红外反射膜区 域之间沉积至少100埃的透明介电膜；在第二和第三红外反射膜区域之间 沉积至少100埃的透明介电膜；并在第三红外反射膜区域之上沉积至少50 埃的透明介电膜。

10、权利要求9的方法，其中所述向下涂覆设备的操作包括：在所述 玻璃片的顶部主表面与第一红外反射膜区域之间沉积不超过175埃的透明 介电膜。

11、权利要求1的方法，其中所述涂布机具有包括至少60个溅射室的 延伸的溅射室系列，所述玻璃片的主要尺寸为至少2米，且所述方法包括 在玻璃片单次通过涂布机的过程中全部涂覆玻璃片的顶部和底部主表面。

12、权利要求1的方法，其中，所述玻璃片单次通过涂布机是连续的， 在所述单次通过的过程中从涂布机移出玻璃片不中断玻璃片的传送。

13、权利要求1的方法，其中，在所述玻璃片单次通过涂布机的整个 过程中，所述传送速度保持基本恒定。