[发明专利]表面性质改进的具有含氮基质的烧结陶瓷产品有效

专利信息
申请号: 200680045000.7 申请日: 2006-10-27
公开(公告)号: CN101321716A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: E·若热;F·鲁莱;J·舍恩纳莱赫 申请(专利权)人: 圣戈班欧洲设计研究中心
主分类号: C04B41/85 分类号: C04B41/85;C04B35/65
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张力更
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 表面 性质 改进 具有 基质 烧结 陶瓷产品
【权利要求书】:

1.包含由含氮基质粘结的颗粒材料的烧结陶瓷产品,其中在产品 的表面层中存在至少一种选自钙和硼的防尘剂,并且其中在所述表面 层中所述防尘剂总体的质量比率高于在所述层下测得的相应比率,并 且其中表面层具有大于或等于0.25%的防尘剂质量比率。

2.根据权利要求1的烧结陶瓷产品,其中该颗粒材料和基质由耐 火材料制成。

3.根据权利要求1的烧结陶瓷产品,其中表面层的钙或硼比率分 别高于在该表面层下的钙或硼比率。

4.根据权利要求1的烧结陶瓷产品,其中钙和/或硼分别以至少 一种钙化合物和/或至少一种硼化合物的形式存在。

5.根据权利要求4的烧结陶瓷产品,其中钙化合物和/或硼化合 物是非氧化化合物。

6.根据权利要求4的烧结陶瓷产品,其中钙化合物选自氧化物、 碳化物、氮化物、氟化物、金属合金、含钙的有机金属化合物,而硼 化合物选自氧化物、碳化物、氮化物、氟化物、金属合金、含硼的有 机金属化合物。

7.根据权利要求4的烧结陶瓷产品,其中钙化合物选自CaB6、 CaSiO3和CaCO3,而硼化合物选自B4C、CaB6、BN、TiB2和H3BO3

8.根据权利要求1的烧结陶瓷产品,其中表面层具有小于500 微米的厚度。

9.根据权利要求1的烧结陶瓷产品,其中在表面层中,硼比率高 于0.05%和/或钙比率高于0.2%,并且在所述层下,硼比率低于0.05% 和/或钙比率低于0.2%,分别为质量百分比。

10.根据权利要求1的烧结陶瓷产品,其中该颗粒材料包含氮化 硅和/或SiAlON和/或碳化硅和/或氧化铝的颗粒。

11.具有含氮基质的烧结陶瓷产品的制造方法,包括在坯件的表 面的至少一部分上沉积硼和/或钙,然后反应性烧结以制造根据前述权 利要求任一项的产品。

12.根据权利要求11的具有含氮基质的烧结陶瓷产品的制造方 法,包括下列步骤:

a)制备坯件;

b)在制成的坯件的表面的至少一部分上沉积包含硼和/或钙的涂 层组合物;

c)在步骤b)之前或之后,干燥该坯件;

d)在还原性含氮气氛下,或者任选地,如果该坯件包含氮,则在 任何非氧化性的气氛下,在1300至1600℃的温度下,烧制已覆盖和 干燥的坯件,以获得具有含氮基质的烧结产品。

13.根据权利要求12的制造方法,其中所述涂层组合物包含每平 方米被覆表面为至少0.1克干物质和每平方米被覆表面为至多70克干 物质。

14.根据权利要求11的制造方法,其中在坯件上沉积下列量的硼 和/或钙:

-在不存在硼的情况下,对于每平方米表面和最终烧结产品组成 中每1%氮来说,至少1.6克钙(Ca);

-在不存在钙的情况下,对于每平方米表面和最终烧结产品组成 中每1%氮来说,至少1.2克硼(B);

-在存在硼和钙的情况下,对于每平方米被覆表面和最终烧结产 品组成中每1%氮来说,至少0.4克钙(Ca)和/或至少0.6克硼(B)。

15.根据权利要求11的制造方法,其中在坯件上沉积下列量的硼 和/或钙:

-在不存在硼的情况下,对于每平方米表面和最终烧结产品组成 中每1%氮来说,至少3.2克钙(Ca);

-在不存在钙的情况下,对于每平方米表面和最终烧结产品组成 中每1%氮来说,至少2.4克硼(B)。

16.根据权利要求11的制造方法,其中在坯件上沉积下列量的硼 和/或钙:

-在存在硼和钙的情况下,对于每平方米被覆表面和最终烧结产 品组成中每1%氮来说,至少0.8克钙(Ca)和/或至少1.2克硼(B)。

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