[发明专利]低电阻率的封装基板及其制造方法有效
| 申请号: | 200680042966.5 | 申请日: | 2006-12-12 |
| 公开(公告)号: | CN101310384A | 公开(公告)日: | 2008-11-19 |
| 发明(设计)人: | O·J·贝希尔;M·托亚马;B·S·萨哈;E·A·纳西尔;C·K·古鲁默西 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
| 主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H05K3/24 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈松涛;王英 |
| 地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电阻率 封装 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种集成电路封装。
背景技术
芯片或管芯形式的集成电路通常被封装包封,该封装安装到印刷电路 板。封装在(例如)封装基板的焊盘侧上具有大量的外部接触部,该外部 接触部连接到印刷电路板且专用于集成电路的各种电源、接地和信号引脚。 用于连接封装的接触部和印刷电路板的接触部的典型技术包括焊球、引脚 和插槽技术。在接触部不由附着到封装基板的导电接触部或焊盘的焊球形 成的情况下,典型的封装参考是作为平面栅格阵列式(LGA)封装。
封装基板通常具有内部布线层,该内部布线层将外部焊盘连接到基板 封装的相反侧上的接触部,所述接触部连接到集成电路芯片或管芯。内部 布线层通常包含用于接地总线、电源总线和多个信号线的单独的层。各层 通过贯穿基板的过孔连接到外部焊盘。
一般,管芯所需要的电流量确定管芯的性能。如果封装电阻高,则在 封装中流动的电流将减小,并且封装和管芯将需要较多的电源。如果电阻 低,则集成电路管芯能够在较低功率(例如1.3到1.5伏特)下工作。因 此,本发明的一个目的是开发低电阻率的封装。
如上所述,封装基板具有多个导电层并且这些层的功率耗散通常最小。 基板封装的大部分功率耗散发生在接触部或焊盘。因此,在某种意义上, 焊盘确定封装基板的总的电阻率。
根据当前的工艺,封装基板的外部导电焊盘是铜涂覆的结构。例如, 用镍层涂覆基板封装中形成的铜接触部,紧接着涂覆钯涂层,然后涂覆金 涂层。
附图说明
图1示出包括微处理器的计算机系统,其由安装到印刷电路板的封装 包封;
图2示出封装基板上的焊盘的示意性横截面侧视图;
图3示出在封装基板的焊盘上形成涂覆层的流程图。
具体实施方式
图1示出了集成电路封装的横截面侧视图,该集成电路封装物理地和 电地连接到印刷线路板或印刷电路板(PCB),以形成电子组件。电子组件 可以是电子系统的一部分,所述电子系统诸如是计算机(例如,台式计算 机、膝上型计算机、掌上电脑、服务器等)、无线通信设备(例如,便携式 电话、无绳电话、寻呼机等)、计算机相关的外围设备(例如,打印机、扫 描仪、监视器等)、娱乐设备(例如,电视、无线电设备、立体声系统、磁 带、致密盘播放器、录像机和运动图像专家组音频第3层播放器(MP3)等), 等等。图1举例说明作为台式计算机的一部分的电子组件。图1示出了包 括管芯110的电子组件100,该管芯110物理地和电地连接到封装基板120。 管芯110是诸如微处理器管芯的集成电路管芯,具有例如晶体管结构,其 中通过到管芯110的外表面上的接触部130的互连线,将所述晶体管结构 互连或连接到管芯外部的电源/地或输入/输出信号。接触部130可以与接 触部140对准,所述接触部140例如构成封装基板120的外表面上的管芯 凸点层。在封装基板120与包含接触部140的表面相反的表面上是焊盘接 触部150。连接到焊盘接触部150中的每一个的是焊料凸点160,焊料凸点 160可用来将封装170连接到诸如母板或其他电路板等的电路板180。
图2示出了图1的封装基板的焊盘接触部中的一个的实例。图3描述 了用于在接触部上形成涂覆层的代表性工艺流程。参考图2,封装基板120 包括焊盘接触部150,每个焊盘接触部150包括形成在封装基板120内或上 的作为触点的接触部210。接触部210具有多个覆盖在表面(如图所示的顶 部表面)上的涂覆层。在一个实施例中,接触部210是诸如铜或铜合金的 导电材料。通过诸如聚合体(例如聚酰亚胺)材料等的电介质材料,接触 部210可以被封装基板120上的相邻的接触部隔开。
覆盖在接触部210的表面(如图所示的顶表面)上的是第一涂覆层220。 在接触部210是铜材料的实施例中,第一涂覆层220是由镍材料形成的。 参考图3中的工艺流程,工艺300包括在封装基板的焊盘接触部上沉积诸 如镍材料等的第一涂覆层,所述焊盘接触部例如是封装基板120的焊盘接 触部210(方框310)。一种用于将由镍材料制成的第一涂覆层沉积到由铜 材料制成的接触部上的技术是通过无电沉积工艺。
在图2的结构中覆盖在第一涂覆层220上的是层230。在一个实施例中, 层230选择为金材料。图3中描述的工艺流程包括在第一涂覆层上沉积第 一金层(方框320)。一种用于沉积金材料的技术是通过电镀工艺。
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