[发明专利]用于动态探针调节的方法和装置

权利要求书

1.一种用于在变化的条件下在探测器中相对于多个电触点中的至少一 个电触点来动态定位多个接触电极中的至少一个接触电极的方法，该方法包 括：

通过使用具有至少一个状态变量的动态模型来预测所述多个接触电极 中的至少一个接触电极相对于所述多个电触点中的至少一个电触点的位置 的相对位置，其中所述至少一个状态变量包括至少一个接触电极相对于所述 至少一个电触点的位置的相对位置，所述动态模型定义了在条件改变时所述 至少一个接触电极相对于所述至少一个电触点的相对位置随着时间的变化； 以及

基于所述预测而使所述至少一个接触电极与所述至少一个电触点中的 一者相对于彼此移动。

2.根据权利要求1所述的方法，其中：

所述多个接触电极包括探针，且其中所述移动被完成以使所述至少一个 接触电极与关于所述至少一个电触点的预定位置相距预定距离之内。

3.根据权利要求1所述的方法，其中：

所述多个电触点包括来自多个晶粒的至少一个晶粒的衬垫。

4.根据权利要求1所述的方法，其中：

所述条件的变化包括温度的变化。

5.根据权利要求1所述的方法，其中：

所述移动被执行以使所述至少一个接触电极与所述至少一个电触点沿 着预定的方向基本对准。

6.根据权利要求1所述的方法，其中：

所述动态模型包括线性滤波器、非线性滤波器、最优滤波器、以及非最 优滤波器中的至少一者。

7.根据权利要求1所述的方法，还包括：

执行对所述探测器的至少一个组件的位置测量；以及

基于所述测量来更新所述动态模型的所述至少一个状态变量。

8.根据权利要求7所述的方法，其中：

所述更新被执行以最小化至少一个预定的函数，其中所述至少一个预定 的函数包括所述预测和所述测量中的至少一者的函数。

9.根据权利要求8所述的方法，其中：

所述至少一个预定的函数包括所述预测和所述测量间的误差的函数。

10.根据权利要求1所述的方法，其中：

所述移动在测试期间被执行。

11.一种用于在变化的条件下相对于晶片的多个电触点中的至少一个电 触点来动态定位探针卡的多个接触电极中的至少一个接触电极的探测器，该 探测器包括：

相机部件，用于测量所述探测器的晶片卡盘的位移并用于测量所述探针 卡的位移，所述晶片卡盘用于固定所述晶片；

处理器，用于通过使用具有至少一个状态变量的动态模型来预测所述多 个接触电极中的至少一个接触电极相对于所述多个电触点中的至少一个电 触点的相对位置，其中所述至少一个状态变量包括至少一个接触电极相对于 所述至少一个电触点的位置的相对位置，所述动态模型定义了在条件改变时 所述至少一个接触电极相对于所述至少一个电触点的相对位置随着时间的 变化，并且所述动态模型基于所述相机部件的所述测量而被生成；以及

电机部件，用于基于所述处理器所预测的相对位置而使所述多个接触电 极中的至少一个接触电极与所述多个电触点中的至少一个电触点相对于彼 此移动，从而使所述至少一个接触电极基本处于关于所述至少一个电触点的 预定位置。

12.根据权利要求11所述的探测器，其中：

所述多个接触电极包括探针。

13.根据权利要求11所述的探测器，其中：

所述多个电触点包括来自多个晶粒的至少一个晶粒的衬垫。

14.根据权利要求11所述的探测器，其中：

所述条件的变化包括温度的变化。

15.根据权利要求11所述的探测器，其中：

所述移动被执行以使所述至少一个接触电极与所述至少一个电触点沿 着预定的方向基本对准。