[发明专利]用于化学机械平坦化系统的有孔修整刷

权利要求书

1.一种设备，其用于修整用在化学机械平坦化(CMP)系统中的抛 光垫，所述设备包括：

修整器头部外壳，其包括进入口和排出口，所述进入口用于将修整液 引入到所述抛光垫上，所述排出口用于排出所述抛光垫的修整区域中的修 整流出物；及

修整盘，其设置在所述外壳内，以便在修整过程中接触所述抛光垫的 顶部主表面，所述修整盘包括：

刷，其用于扫过所述抛光垫的所述顶部主表面并从其驱除碎屑，及 多个孔，其用于将修整液分配至所述抛光垫，并排出所述抛光垫中 的修整流出物。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述刷包括多个毛。

3.如权利要求1所述的设备，其中所述修整盘包括研磨材料。

4.如权利要求2所述的设备，其中所述多个毛包括惰性材料。

5.如权利要求4所述的设备，其中所述惰性材料包括尼龙。

6.如权利要求2所述的设备，其中所述多个毛包括填充研磨剂的复 合材料。

7.如权利要求2所述的设备，其中所述多个毛按跨过所述修整盘的 一系列嵌套的V形图案布置，且所述孔布置在其间。

8.如权利要求2所述的设备，其中所述多个毛按跨过所述修整盘的 一系列同心圆布置。

9.如权利要求2所述的设备，其中所述多个毛按多个螺旋形臂布置， 所述多个螺旋形臂从所述修整盘的中心区域发散。

10.如权利要求2所述的设备，其中所述多个毛离开所述修整器头部 外壳以下一段预定距离，以便允许所述毛进入所述抛光垫材料，而不中断 从所述抛光垫材料排出流出物。

11.如权利要求1所述的设备，其中所述修整盘还包括六脚键对齐结 构，所述六脚键对齐结构用于提供所述修整盘和所述修整器头部外壳之间 的对齐连接，从而提供所述修整盘的所述多个孔与所述修整器头部外壳的 所述进入口和所述排出口之间的对齐。

12.一种修整盘，其用于修琢化学机械平坦化(CMP)设备内的抛光 垫，所述修整盘包括：

多个孔，其用于将修整液分配至所述抛光垫表面，并排出所述抛光垫 表面中的修整流出物；及

刷，其用于扫过纤维化抛光垫，并从其驱除碎屑。

13.如权利要求12所述的修整盘，其中所述刷包括多个毛。

14.如权利要求12所述的修整盘，其中所述盘包括研磨材料，所述 研磨材料适用于修琢所述抛光垫。

15.如权利要求13所述的修整盘，其中所述多个毛包括惰性材料。

16.如权利要求15所述的修整盘，其中所述惰性材料包括尼龙。

17.如权利要求13所述的修整盘，其中所述多个毛包括填充研磨剂 的复合材料。

18.如权利要求13所述的修整盘，其中所述多个毛按跨过所述修整 盘的一系列嵌套的V形图案布置，且所述多个孔布置在其中。

19.如权利要求13所述的修整盘，其中所述多个毛按跨过所述修整 盘的一系列同心圆布置。

20.如权利要求13所述的修整盘，其中所述多个毛按多个螺旋形臂 布置，所述多个螺旋形臂从所述修整盘的中心区域发散。

21.一种方法，其用于修整用在化学机械平坦化系统中的抛光垫，所 述方法包括以下步骤：

提供贴着所述抛光垫的顶部主表面的有孔修整刷，所述有孔修整刷包 括多个毛和多个孔；

提供所述有孔修整刷上的向下的力，所述向下的力足以将所述多个毛 推入所述抛光垫的孔隙内；

使所述有孔修整刷移动跨过所述抛光垫的所述表面，以使所述多个毛 驱除所述孔隙中积累的碎屑；及

施加真空力，所述真空力足以通过所述多个孔排出沉积的积聚碎屑， 并远离所述化学机械平坦化系统。