[发明专利]集成PUF

权利要求书

1.一种用于形成挑战应答对的装置(100)，包括：

辐射源(101)，

挑战修改元件(103)，

辐射散射元件(102)，和

辐射探测元件(105)；

所述辐射源经设置用来通过辐照所述挑战修改元件形成挑战；

所述挑战修改元件经设置用来改变从所述辐射源接收的辐射并把所述修改的辐射导向所述辐射散射元件；

所述辐射散射元件经设置用来散射通过所述挑战修改元件接收来自所述光源的光；和

所述辐射探测元件经设置用来形成对所述修改和散射辐射的应答，所述修改和散射辐射经所述辐射散射元件从所述辐射源接收。

2.根据权利要求1的装置，其中所述挑战修改元件和所述辐射探测元件设置在虚平面(107)的第一侧面上，并且所述辐射散射元件设置在所述虚平面的第二侧面上，以使所述散射辐射在其到达所述辐射探测元件之前贯穿过所述虚平面。

3.根据权利要求1或2的装置，其中所述挑战修改元件(102)经设置用来修改所述挑战，这通过改变：

所述辐射在所述辐射散射元件(103)的入射点；

所述辐射入射到所述辐射散射元件的入射角，和/或

入射到所述辐射散射元件上的所述辐射的相位。

4.根据权利要求1或2的装置，其中所述挑战修改元件(102)和所述辐射探测元件(105)设置在同一衬底(110)上。

5.根据权利要求1的装置，其中所述挑战修改元件(102)包括可移动或可轴旋转的透镜(302)，光学地在其之后设置反射性表面，所述透镜优选地可绕两个不同的旋转轴旋转。

6.根据权利要求1的装置，其中所述挑战修改元件包括至少一个可轴旋转反射表面(202)，优选设置成绕两个不同的旋转轴旋转。

7.根据权利要求6的装置，其中所述挑战修改元件包括几个不同的分别可控的区域(102)，其设置成使得每个区域能独立于其他可控区域修改一部分所述入射辐射。

8.根据权利要求6或7的装置，其中所述挑战修改元件是微机电系统装置，并且优选为包括二维可移动镜面阵列的空间光调制器或空间相位调制器。

9.根据权利要求1的装置，其中所述挑战修改元件包括反射性液晶元件。

10.根据权利要求1或4的装置，其中所述辐射源(101)与所述挑战修改元件和所述辐射探测元件设置在同一衬底(410)上。

11.根据权利要求10的装置，其中所述辐射探测元件(403)还包括反射性聚焦调节元件(406)，其经设置用来通过反射准直或再聚焦从所述辐射源(101)入射的辐射，其中该聚焦调节元件光学地设置在所述辐射源和所述辐射修改元件(402)之间。

12.根据权利要求11的装置，其中所述聚焦调节元件(406)是椭圆反射性表面，优选为球形反射性表面。

13.根据权利要求1的装置，其中所述辐射散射元件(403)具有回射元件(411)，其经设置用来阻止光从所述挑战修改元件(402)镜面反射到所述辐射探测元件(105)。

14.根据权利要求1的装置，其中所述光源(101)包括激光二极管。

15.根据权利要求1的装置，其中所述装置是物理不可复制功能装置，具有包括散射颗粒的涂层。