[发明专利]使用负折射率材料的用于电磁谐振的方法和设备无效
申请号: | 200680034490.0 | 申请日: | 2006-07-21 |
公开(公告)号: | CN101268593A | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
发明(设计)人: | A·M·布拉特科夫斯基;R·G·博索莱尔;S·-Y·王 | 申请(专利权)人: | 惠普开发有限公司 |
主分类号: | H01S5/10 | 分类号: | H01S5/10;G02B6/122 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王庆海;刘春元 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 折射率 材料 用于 电磁 谐振 方法 设备 | ||
1.一种电磁谐振装置(300),其包括:
显著反射具有所关心波长的第一辐射(410)的输入反射器(310);
在与输入反射器(310)基本平行的平面中并且显著反射具有所关心波长的第二辐射(420)的输出反射器(320);
布置在输入反射器(310)和输出反射器(320)之间并且包括在第一表面(280)和第二表面(290)之间的介电周期性的周期性电介质(200),该周期性电介质被设置成在所关心波长处具有负折射,其中负折射:
将到达第一表面(280)的第一辐射(410)作为从第二表面(290)出射的第二辐射(420)在第二焦点位置(428)聚焦;以及
将到达第二表面(290)的第二辐射(420)作为从第一表面(280)出射的第一辐射(410)在第一焦点位置(418)聚焦。
2.如权利要求1所述的装置,其中周期性电介质(200)包括2D光子晶体(200),该2D光子晶体包括第一材料(202),该第一材料包括多个周期性地间隔的第二材料(204)的圆柱(204)。
3.如权利要求1所述的装置,其中输入反射器(310)和输出反射器(320)包括布拉格反射器。
4.如权利要求1所述的装置,其中第一焦点位置(418)靠近输入反射器(310)的内表面,而第二焦点位置(428)靠近输出反射器(320)的内表面。
5.如权利要求1所述的装置,其中所关心波长处的泵浦辐射(400)的至少一部分透射通过输入反射器(310),以便作为第一辐射(410)进入电磁辐射装置。
6.如权利要求1所述的装置,其中第二辐射(420)的至少一部分透射通过输出反射器(320)作为发射辐射(490)。
7.如权利要求6所述的装置,还包括相邻于输出反射器(320)形成的孔径(335),其被设置成用于确定发射辐射(490)的尺寸和形状。
8.一种增强电磁辐射束的方法,其包括:
提供包括在所关心波长处的负折射率的周期性电介质(200);
将第一辐射(410)向周期性电介质(200)的第一表面(280)反射;
将第二辐射(420)向周期性电介质(200)的第二表面(290)反射;
通过使第一辐射(410)从第一表面(280)穿过周期性电介质(200)到达第二表面(290),并作为从第二表面(290)出射的第二辐射(420)在第二焦点位置(428)聚焦;以及
通过使第二辐射(420)从第二表面(290)穿过周期性电介质(200)到达第一表面(280),并作为从第一表面(280)出射的第一辐射(410)在第一焦点位置(418)聚焦。
9.如权利要求8所述的方法,其中提供周期性电介质(200)还包括提供包括第一材料(202)的2D光子晶体(200),第一材料(202)包括多个周期性地间隔的第二材料(204)的圆柱(204)。
10.如权利要求8所述的方法,其中反射第一辐射(410)包括用输入反射器(310)来反射第一辐射(410)。
11.如权利要求10所述的方法,其中聚焦第一辐射(410)还包括使第一焦点位置(418)靠近输入反射器(310)的内表面。
12.如权利要求10所述的方法,还包括:
将具有所关心波长的泵浦辐射(400)导向在输入反射器(310)的输入表面(311)上;以及
泵浦辐射(400)的至少一部分透射通过输入反射器(310)。
13.如权利要求8所述的方法,其中反射第二辐射(420)包括用输出反射器(320)来反射第二辐射(420)。
14.如权利要求13所述的方法,其中聚焦第二辐射(420)还包括使第二焦点位置(428)靠近输出反射器(320)的内表面。
15.如权利要求13所述的方法,还包括第二辐射(420)的至少一部分透射通过输出反射器(320)。
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