[发明专利]有机半导体的溶剂混合物有效

专利信息
申请号: 200680030122.9 申请日: 2006-07-25
公开(公告)号: CN101243559A 公开(公告)日: 2008-08-13
发明(设计)人: 海因里希·贝克尔;苏珊·霍伊恩 申请(专利权)人: 默克专利有限公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 郭国清;樊卫民
地址: 德国达*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有机半导体 溶剂 混合物
【权利要求书】:

1.一种单相液体组合物(溶液),包括:

·至少一种有机半导体,

·至少一种有机半导体的有机溶剂,和

·至少一种脂族或脂环族的链烯烃,

其特征在于基于溶剂或溶剂混合物,链烯烃的比例为0.01-20wt%。

2.权利要求1的溶液,其特征在于所述有机半导体是纯组分或两种或多种组分的混合物(共混物),其中至少一种具有半导体性能。

3.权利要求1或2的溶液,其特征在于所述有机半导体是低分子量的低聚、树枝状、直链或支链,特别是聚合有机或有机金属化合物或化合物的混合物。

4.根据权利要求1-3的一项或多项的溶液,其特征在于所述有机半导体的至少一种组份具有高分子量,且分子量Mw为大于10,000g/mol。

5.根据权利要求1-4的一项或多项的溶液,其特征在于聚合有机半导体选自取代的聚对亚芳基亚乙烯基(PAVs)、聚芴(PFs)、聚螺二芴(PSFs)、聚对亚苯基(PPPs)或亚联苯基、聚二氢菲(PDHPs)、反式和顺式聚茚并芴(PIFs)、聚菲、聚噻吩(PTs)、聚吡啶(PPys)、聚吡咯、具有两种或多种这些类别的结构单元的共聚物、聚乙烯基咔唑(PVKs)、三芳胺聚合物、聚亚甲硅基、聚锗烷和/或包括磷光单元的聚合物,所有的这些可溶于有机溶剂。

6.根据权利要求1-5的一项或多项的溶液,其特征在于所述溶液包括0.01-20wt%的有机半导体或相应的共混物。

7.根据权利要求1-6的一项或多项的溶液,其特征在于使用的溶剂是单或者多取代的芳香族溶剂、蚁酸衍生物、N-烷基吡咯烷酮或高沸点醚和/或与直链、支链或环状的链烷、(环状的)脂族醇、醚、酮或羧酸酯类的混合物。

8.根据权利要求1-7的一项或多项的溶液,其特征在于所述链烯烃的沸点低于250℃。

9.根据权利要求1-8的一项或多项的溶液,其特征在于所述链烯烃的沸点超过50℃。

10.根据权利要求1-9的一项或多项的溶液,其特征在于所述链烯烃包括5-15个碳原子。

11.根据权利要求1-10的一项或多项的溶液,其特征在于所述链烯烃选自2,3-二甲基-2-丁烯、4-甲基-1-戊烯、2,3-二甲基-1-丁烯、1,5-己二烯、1-己烯、1-甲基-1-环戊烯、1,3-环己二烯、环己烯、反式,反式-2,4-己二烯、1,4-环己二烯、2-甲基-1-己烯、1-庚烯、2,4,4-三甲基-1-戊烯、1,7-辛二烯、1-辛烯、反式-4-辛烯、反式-2-辛烯、1,3-环辛二烯、苯乙烯、双茂、1,9-癸二烯、1-癸烯、1-十二烯、环十二碳烯、2,5-二甲基-2,4-己二烯、1-十三烯和顺式,反式,反式-1,5,9-环十二烷三烯。

12.权利要求1-11的一项或多项的溶液用于在基材上制造有机半导体层的用途。

13.一种用于在基材上制造有机半导体层的方法,其特征在于通过印刷方法或区域涂覆方法处理权利要求1-11的一项或多项的溶液。

14.有机半导体的层,其特征在于使用权利要求1-11的一项或多项的溶液产生所述层。

15.根据权利要求14的有机半导体层,其特征在于通过权利要求13的印刷方法或区域涂覆方法产生所述层。

16.根据权利要求14或15的有机半导体层在有机或聚合发光二极管(OLEDs、PLEDs)、有机场效应晶体管(O-FETs)、有机薄膜晶体管(O-TFTs)、有机集成电路(O-ICs)、有机场猝熄器件(O-FQDs)、有机发光晶体管(O-LETs)、发光电化学电池(LECs)、有机太阳能电池(O-SCs)、有机激光器二极管(O-lasers)或有机光感受器(O-PCs)中的用途。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于默克专利有限公司,未经默克专利有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680030122.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top