[发明专利]具有改进的机械可靠性和热可靠性的半导体装置有效

专利信息
申请号: 200680028208.8 申请日: 2006-08-09
公开(公告)号: CN101233613A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: 阿野一章 申请(专利权)人: 德州仪器公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L29/40;H01L23/52
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 刘国伟
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 具有 改进 机械 可靠性 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种集成电路装置,其包含:

半导体芯片;

衬底,在其上组装所述芯片,所述衬底具有用于外部连接的触点;

每一触点包括:

具有铜的接触区域;

覆盖所述接触区域的合金层,所述合金层包括铜/锡合金和铜/镍/锡合金,所述合金层以冶金学方式附接到所述铜区域且大致没有非合金镍区;以及

包含锡的回流元件,其以冶金学方式附接到所述合金层。

2.根据权利要求1所述的装置,其中所述铜/锡合金包括Cu6Sn5金属间化合物。

3.根据权利要求1所述的装置,其中所述铜/镍/锡合金包括(Ni,Cu)6Sn5金属间化合物。

4.根据权利要求1所述的装置,其中所述合金层进一步包含金。

5.根据权利要求4所述的装置,其中主要合金包含(Cu,Ni,Au)6Sn5金属间化合物。

6.根据权利要求5所述的装置,其中所述金属间化合物(Cu,Ni,Au)6Sn5的厚度处于约2.0与3.0μm之间。

7.根据权利要求1所述的装置,其中所述合金层包含钯。

8.根据权利要求1所述的装置,其中所述回流元件进一步包含选自由铅、银、铋、铟、锌、铜、镍和锑组成的群组中的一种或一种以上金属。

9.根据权利要求1所述的装置,其中所述衬底触点由焊料掩模中的窗口界定。

10.根据权利要求1所述的装置,其中所述回流元件跨越整个接触区域附接到所述合金层区域。

11.根据权利要求1所述的装置,其中铜/镍/锡合金邻近于所述铜接触区域。

12.根据权利要求11所述的装置,其进一步包含从附近的所述铜接触区域散裂的铜/镍/锡合金。

13.根据权利要求11所述的装置,其中所述铜/锡合金邻近于所述铜接触区域附近的所述铜/镍/锡合金。

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