[发明专利]透镜表背面的光轴偏心量的测定方法有效
| 申请号: | 200680028125.9 | 申请日: | 2006-08-03 |
| 公开(公告)号: | CN101233386A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
| 发明(设计)人: | 中村胜重;三浦胜弘 | 申请(专利权)人: | 三鹰光器株式会社 |
| 主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24;G01B11/00;G01M11/00 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张敬强 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 透镜 背面 光轴 偏心 测定 方法 | ||
1.一种测定方法,测定非球面透镜的表背两面的光轴偏心量,其特征在于,
包括如下步骤:
在具有相互定位的三个以上基准点的支架上,定位具有第一面及第二面的非球面透镜;
对于所述第一面,在所述支架的第一方向及第二方向分别以规定间距测定所述第一面的一维表面形状;
在测定所述第一面的一维表面形状时的所述支架的位置,测定所述第一面侧的所述基准点的第一位置;
对于所述第二面,在所述支架的第一方向及第二方向分别以规定间距测定所述第二面的一维表面形状;
在测定所述第二面的一维表面形状时的所述支架的位置,测定所述第二面侧的所述基准点的第二位置;
基于所测定的所述第一位置及第二位置,以同一三维坐标系记述所述非球面透镜的第一面的表面形状及所述非球面透镜的第二面的表面形状;以及,
利用规定的表面形状对所述第一面的表面形状及所述第二面的表面形状进行拟合处理,由最佳拟合时的顶点位置和光轴的倾斜算出光轴偏心量。
2.根据权利要求1所述的测定方法,其特征在于,
测定所述第一面的一维表面形状包括如下步骤:
在所述第一方向计测所述第一面的一维表面形状并检测第一顶点位置;
在通过所述第一顶点位置的假想平面内,在所述第二方向测定所述第一面的一维表面形状并检测第二顶点位置;以及,
基于所述第一顶点位置及第二顶点位置决定测定位置。
3.根据权利要求1所述的测定方法,其特征在于,
各所述基准点为形成于所述支架上的针孔,使所述支架从所述第一面侧贯通到所述第二面侧。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的测定方法,其特征在于,
测定所述基准点的第一位置及第二位置包括如下步骤:
从与所述第一方向及第二方向正交的第三方向(Z轴),通过光学系统拍摄透过各所述基准点的针孔的照明光,测定所述第一方向及第二方向上的所述针孔位置;以及,
基于与所述光学系统的所述针孔相关的对焦位置,测定所述基准点的所述第三方向的位置。
5.一种测定方法,测定非球面透镜的表背两面的光轴偏心量,其特征在于,
包括如下步骤:
准备具有相互定位的第一基准点(6b)、第二基准点(6d)、第三基准点(6a)及第四基准点(6c)的支架,所述第一基准点及第二基准点沿第一方向(x轴)排列,所述第三基准点及第四基准点沿与所述第一方向正交的第二方向(y轴)排列;
在所述支架上定位具有第一面(1a)及第二面(1b)的非球面透镜;
检测所述第一面侧的所述各基准点的第一位置,基于所述第一方向及第二方向设定共用基准坐标;
检测所述第一面的第一顶点位置并通过所述共用基准坐标记述;
反转所述支架;
检测所述第二面侧的所述各基准点的第二位置,并与所述共用基准坐标相对应;
检测所述第二面的第二顶点位置,并与所述共用基准坐标相对应而记述;以及,
由所述第一顶点位置及第二顶点位置算出偏心量。
6.根据权利要求5所述的测定方法,其特征在于,
测定所述基准点的第一位置及第二位置包括如下步骤:
从与所述第一方向及第二方向正交的第三方向,通过光学系统拍摄透过各所述基准点的针孔的照明光,测定所述第一方向及第二方向上的所述针孔位置;以及,
基于与所述光学系统的所述针孔相关的对焦位置,测定所述基准点的所述第三方向的位置。
7.根据权利要求5或6所述的测定方法,其特征在于,
检测所述第一顶点位置包括如下步骤:
在所述第一方向计测所述第一面的一维表面形状,检测第一对称中心位置;
在所述第二方向测定所述第一面的一维表面形状,检测第二对称中心位置;以及,
由所述第一对称中心位置及第二对称中心位置算出所述第一顶点位置。
8.根据权利要求5或6所述的测定方法,其特征在于,
在与所述非球面透镜的凸缘部的边界相对于光轴形成同心圆状的情况下,
检测所述第一顶点位置是指检测所述同心圆状的边界,由该同心圆的中心位置求出所述第一顶点位置。
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