[发明专利]影像表示及微光学安全系统

权利要求书

1.一种合成光影像系统，包括：

聚焦元件阵列，以及

包括微结构图标元件的图标元件阵列，用于集体形成影像，

其中聚焦元件阵列的平面被布置为基本上平行于图标元件阵列的平面，并且布置在对于该聚 焦元件来说足以形成图标元件的合成影像的距离处，

其中所述图标元件阵列被包含到图标层中，其特征在于

所述合成光影像系统还包括施加到图标层的至少一部分表面的图案化的涂覆材料，其中所述 涂覆材料的图案化构成存在涂覆材料的区域以及不存在涂覆材料区域，以及其中所述涂覆材 料与图标元件一致，涂覆凹槽形状，但是不涂覆所述凹槽形状之间的平面。

2.如权利要求1的合成光影像系统，其中图标层形成于基板上。

3.如权利要求1的合成光影像系统，其中所述合成光影像系统是微光系统、合成放大微光 影像投影系统、云纹放大系统或微圆柱透镜影像系统中的一个或多个。

4.如权利要求1的合成光影像系统，其中图标层是独立式的。

5.如权利要求1的合成光影像系统，其中图标层被提供在基板上。

6.如权利要求1的合成光影像系统，其中微结构图标元件阵列包括具有微结构的区域以及 未被结构化的区域，且其中当图标阵列浸入真空、气体、液体或固体中或与其接触时，微结 构图标元件被设计成展示在微结构以及未被结构化的图标阵列的区域之间的光学对比度。

7.如权利要求6的合成光影像系统，其中光学对比度由于折射、内反射、表面反射、散 射、偏振、旋光性、衍射、光干涉或其组合而产生。

8.如权利要求1的合成光影像系统，其中涂覆层是共形的或定向的。

9.如权利要求1的合成光影像系统，其中涂覆层是金属材料。

10.如权利要求9的合成光影像系统，其中所述涂覆材料具有已经被去掉的选定部分。

11.如权利要求1的合成光影像系统，其中涂覆层被图案化，且该图案化的涂覆层提供独立 于微结构图标元件的图标影像，从而图案化的涂覆层创建第一合成影像，而微结构图标元件 创建第二合成影像。

12.如权利要求1的合成光影像系统，其中涂覆层被图案化，且图案化的涂覆层的一部分形 成正影像或负影像。

13.如权利要求1的合成光影像系统，其中微结构图标元件的一部分形成正影像或负影像或 者正影像和负影像这两者。

14.如权利要求12的合成光影像系统，其中图案化的涂覆层的一部分形成颜色反转的影 像。

15.如权利要求13的合成光影像系统，其中微结构图标元件的一部分形成颜色反转的影 像。

16.如权利要求12的合成光影像系统，其中图案化的涂覆层的一部分形成相对于透明背景 为不透明的影像或者相对于不透明背景为透明的影像。

17.如权利要求13的合成光影像系统，其中微结构图标元件的一部分形成相对于透明背景 为不透明的影像或者相对于不透明背景为透明的影像。

18.如权利要求1的合成光影像系统，包括由图标元件阵列和聚焦元件的阵列形成的微印 刷，所述阵列合作以形成合成光影像。

19.如权利要求18的合成光影像系统，其中微印刷用于致密信息存储。

20.如权利要求18的合成光影像系统，其中微印刷用于现金的认证、现金、文献、包装或 产品的安全线程中。

21.如权利要求1的合成光影像系统，其中涂覆层被层压在图标层上。

22.如权利要求1的合成光影像系统，其中所述微结构图标元件被形成为凹槽，并且至少一 部分微结构图标元件被填充有图标填充材料。