[发明专利]可涂抹乳制品无效
| 申请号: | 200680024930.4 | 申请日: | 2006-06-26 |
| 公开(公告)号: | CN101217878A | 公开(公告)日: | 2008-07-09 |
| 发明(设计)人: | M·B·康斯坦丁诺;E·博伊特勒;E·利希蒂 | 申请(专利权)人: | 雀巢技术公司 |
| 主分类号: | A23C9/15 | 分类号: | A23C9/15 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 涂抹 乳制品 | ||
1.一种耐贮存的涂抹料,其含有脂肪含量为2~25重量%和水含量为15~35重量%的甜炼乳,其特征在于该涂抹料不含乳化剂和增稠剂,未被焦糖化和因剪切而被增稠,从而其具有对应最大压力为至少20g的硬度,该硬度于25℃通过装配有5kg测力传感器和20mm直径柱形探头的质构仪测量得到,其中所述柱形探头以恒定速度1mm/s在10s期间进入所述样品中。
2.一种耐贮存的涂抹料,其含有脂肪含量为2~25重量%和水含量为15~35重量%的甜炼乳,其特征在于该涂抹料不含乳化剂和增稠剂,未被焦糖化和因剪切而被增稠,从而其具有至少90Pa的屈服点,该屈服点通过带有4桨叶旋转叶片几何体(FL22)的流变仪于25℃采用0~560Pa的应力扫描而测量得到。
3.一种耐贮存的涂抹料,其含有脂肪含量为2~25重量%和水含量为15~35重量%的甜炼乳,其特征在于该涂抹料不含乳化剂和增稠剂,未被焦糖化和因剪切而被增稠,从而其具有就等于1Pa的应力值而言为至少400Pa的G’值(储能模量),该G’值通过带有4桨叶旋转叶片几何体(FL22)的流变仪于25℃以1Hz频率采用0~20Pa的应力扫描而测量得到。
4.一种耐贮存的涂抹料,其含有脂肪含量为2~25重量%和水含量为15~35重量%的甜炼乳,其特征在于该涂抹料不含乳化剂和增稠剂,未被焦糖化和因剪切而被增稠,从而其具有对应最大压力为至少20g的硬度,该硬度于25℃通过装配有5kg测力传感器和20mm直径柱形探头的质构仪测量得到,其中所述柱形探头以恒定速度1mm/s在10s期间进入所述样品中,和其具有至少90Pa的屈服点,该屈服点通过带有4桨叶旋转叶片几何体(FL22)的流变仪于25℃采用0~560Pa的应力扫描而测量得到。
5.一种耐贮存的涂抹料,其含有脂肪含量为2~25重量%和水含量为15~35重量%的甜炼乳,其特征在于该涂抹料不含乳化剂和增稠剂,未被焦糖化和因剪切而被增稠,从而其具有对应最大压力为至少20g的硬度,该硬度于25℃通过装配有5kg测力传感器和20mm直径柱形探头的质构仪测量得到,其中所述柱形探头以恒定速度1mm/s在10s期间进入所述样品中,和其具有就等于1Pa的应力值而言为至少400Pa的G’值(储能模量),该G’值通过带有4桨叶旋转叶片几何体(FL22)的流变仪于25℃以1Hz频率采用0~20Pa的应力扫描而测量得到。
6.一种耐贮存的涂抹料,其含有脂肪含量为2~25重量%和水含量为15~35重量%的甜炼乳,其特征在于该涂抹料不含乳化剂和增稠剂,未被焦糖化和因剪切而被增稠,从而其具有至少90Pa的屈服点,该屈服点通过带有4桨叶旋转叶片几何体(FL22)的流变仪于25℃采用0~560Pa的应力扫描而测量得到,和其具有就等于1Pa的应力值而言为至少400Pa的G’值(储能模量),该G’值通过带有4桨叶旋转叶片几何体(FL22)的流变仪于25℃以1Hz频率采用0~20Pa的应力扫描而测量得到。
7.一种耐贮存的涂抹料,其含有脂肪含量为2~25重量%和水含量为15~35重量%的甜炼乳,其特征在于该涂抹料不含乳化剂和增稠剂,未被焦糖化和因剪切而被增稠,从而其具有对应最大压力为至少20g的硬度,该硬度于25℃通过装配有5kg测力传感器和20mm直径柱形探头的质构仪测量得到,其中所述柱形探头以恒定速度1mm/s在10s期间进入所述样品中,和其具有至少90Pa的屈服点,该屈服点通过带有4桨叶旋转叶片几何体(FL22)的流变仪于25℃采用0~560Pa的应力扫描而测量得到,和其具有就等于1Pa的应力值而言为至少400Pa的G’值(储能模量),该G’值通过带有4桨叶旋转叶片几何体(FL22)的流变仪于25℃以1Hz频率采用0~20Pa的应力扫描而测量得到。
8.一种耐贮存的涂抹料,其含有脂肪含量为2~25重量%和水含量为15~35重量%的甜炼乳,其特征在于该涂抹料不含乳化剂和增稠剂,因剪切而被增稠,从而其具有对应最大压力为至少20g的硬度,该硬度于25℃通过装配有5kg测力传感器和20mm直径柱形探头的质构仪测量得到,其中所述柱形探头以恒定速度1mm/s在10s期间进入所述样品中,该涂抹料包含作为清晰的正方晶可见的乳糖晶体,用光学显微镜法在微分干涉差模式下以640x的放大倍数观察该晶体的最大尺寸小于25微米。
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