[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，包括：

处理容器，具有：其中使处理气体成为等离子体的等离子体生成空间，和其中放置基板且所述基板进行等离子体处理的处理空间，

气体供应板，其被设置在所述处理容器中以将所述处理容器中的所述等离子体生成空间和所述处理空间分开，

处理气体供应孔，其被设置在所述气体供应板中，用于将所述处理气体供应至所述处理容器中，

多个开口，其被设置在所述气体供应板中，用于将所述等离子体生成空间与所述处理空间连通，和

传热元件，其从所述气体供应板的中央区域延伸到所述气体供应板的外周区域，所述传热元件的传热速率高于形成所述气体供应板的材料的传热速率。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其中

所述传热元件被设置在所述气体供应板内。

3.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其中

所述气体供应板的面对所述基板的区域具有纵向条和横向条的栅格，并且

所述传热元件的至少一部分被设置在纵向条或横向条内。

4.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其中

所述气体供应板中的处理气体通道的一部分被设置在纵向条或横向条内。

5.如权利要求1到4中任一项所述的等离子体处理装置，其中

所述气体供应板设置有另一个气体供应孔，用于将等离子体生成气体供应至所述等离子体生成空间中。

6.如权利要求3或4所述的等离子体处理装置，其中

所述气体供应板设置有另一个气体供应孔，用于将等离子体生成气体供应至所述等离子体生成空间中，并且

所述气体供应板中的等离子体生成气体通道的一部分被设置在纵向条或横向条内。

7.如权利要求5或6所述的等离子体处理装置，其中

处理气体通道和等离子体生成气体通道以如沿所述气体供应板的纵向所见的重叠方式布置。

8.如权利要求5到7中任一项所述的等离子体处理装置，其中

所述传热元件的一部分被设置在处理气体通道和等离子体生成气体通道之间。

9.如权利要求1到8中任一项所述的等离子体处理装置，进一步包括：

用于与在所述气体供应板外周区域的所述传热元件进行热交换的加热介质通道。

10.如权利要求1到9中任一项所述的等离子体处理装置，其中

所述传热元件是热管。