[发明专利]用于抛光高阶梯高度氧化层的自动停止研磨剂组合物

权利要求书

1.具有自动停止功能的化学-机械抛光组合物，其包含：

i)金属氧化物研磨颗粒；和

ii)至少一种选自下面组中的化合物：化学式1表示的氨基醇、化学式2表示的羟基羧酸或其盐，或它们的混合物；

化学式1：  R₁-N(R₂)-A-OH

化学式2：  (OH)_n-R-(COOH)_m

其中，A表示具有2-5个碳原子的直链或者支链亚烷基，R₁和R₂各自独立地表示氢或者具有1-5个碳原子且含有或者不含-OH取代基的直链或者支链烷基，R表示具有1-6个碳原子的直链或者支链亚烷基、具有5-7个碳原子的环亚烷基、具有7-9个碳原子的亚苯基或者亚芳烷基，n和m各自表示不小于1的整数，且n+m不小于3。

2.根据权利要求1的具有自动停止功能的化学-机械抛光组合物，其包含基于抛光组合物的总重量，0.1-20重量％的金属氧化物研磨颗粒、0.5-15重量％的化学式1表示的氨基醇化合物或它们的混合物。

3.根据权利要求1的具有自动停止功能的化学-机械抛光组合物，其包含基于抛光组合物的总重量，0.1-20重量％的金属氧化物研磨颗粒、0.01-15重量％的化学式2表示的羟基羧酸或其盐或它们的混合物。

4.根据权利要求2的具有自动停止功能的化学-机械抛光组合物，其包含基于抛光组合物的总重量，0.5-5重量％的金属氧化物研磨颗粒和1-10重量％的化学式1表示的氨基醇或它们的混合物，并且所述组合物的pH为4-11。

5.根据权利要求3的具有自动停止功能的化学-机械抛光组合物，其包含基于抛光组合物的总重量，0.5-5重量％的金属氧化物研磨颗粒和0.05-10重量％的化学式2表示的羟基羧酸或其盐或它们的混合物，并且所述组合物的pH为4-11。

6.根据权利要求1的具有自动停止功能的化学-机械抛光组合物，其包含基于抛光组合物的总重量，0.5-5重量％的金属氧化物研磨颗粒、0.01-10重量％的化学式1表示的氨基醇和0.01-15重量％的化学式2表示的羟基羧酸或其盐或它们的混合物，并且所述组合物的pH为4-11。

7.根据权利要求1的具有自动停止功能的化学-机械抛光组合物，其特征在于所述羟基羧酸选自化学式2表示的化合物及其混合物：

化学式2：    (OH)_n-R-(COOH)_m

其中，R表示具有1-6个碳原子的直链或者支链的亚烷基、具有5-7个碳原子的环亚烷基、具有7-9个碳原子的亚苯基或者亚芳烷基，n和m分别表示1-7的整数，且n+m不小于4。

8.根据权利要求1的具有自动停止功能的化学-机械抛光组合物，其特征在于所述羟基羧酸选自：葡萄糖酸、葡庚糖酸、柠檬酸、酒石酸、苹果酸、柠苹酸、酮丙二酸、二羟甲基丙酸、二羟乙基丙酸、二羟甲基丁酸、二羟乙基丁酸、甘油酸、粘酸、糖二酸、奎尼酸、戊糖酸、2，4-二羟基苯甲酸、没食子酸，及它们的混合物。

9.根据权利要求1的具有自动停止功能的化学-机械抛光组合物，其特征在于所述氨基醇选自：三乙醇胺、2-二甲基氨基-2-甲基-1-丙醇、1-氨基-2-丙醇、1-二甲基氨基-2-丙醇、3-二甲基氨基-1-丙醇、2-氨基-1-丙醇、2-二甲基氨基-1-丙醇、2-二乙基氨基-1-丙醇、2-二乙基氨基-1-乙醇、2-乙氨基-1-乙醇、1-(二甲基氨基)-2-丙醇、二乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-丙基二乙醇胺、N-异丙基二乙醇胺、N-(2-甲丙基)二乙醇胺、N-正丁基二乙醇胺、N-叔丁基乙醇胺、N-环己基二乙醇胺、N-十二烷基二乙基胺、2-(二甲基氨基)乙醇、2-二乙基氨基乙醇、2-二丙氨乙醇、2-丁氨乙醇、2-叔丁氨乙醇、2-环氨乙醇、2-氨基-2-戊醇、2-[二(2-羟基乙基)氨基]-2-甲基-1-丙醇、2-[二(2-羟基乙基)氨基]-2-丙醇、N，N-二(2-羟基丙基)乙醇胺、2-氨基-2-甲基-1-丙醇、三(羟甲基)氨甲烷和三异丙醇胺，或它们的混合物。