[发明专利]粒子辐射治疗设备

权利要求书

1.粒子辐射治疗设备，被布置用于将带电粒子射束沿预订方向(Z)施加于施加区域，该粒子辐射治疗设备包括被布置用于沿预定方向引导带电粒子射束的带电粒子射束源，进一步包括用于在施加带电粒子射束的同时在包括施加区域的成像体积中生成磁场的磁场生成装置，其中所述磁场生成装置包括线圈，所述线圈被布置用于提供至带电粒子射束的施加区域的通路并且在带电粒子射束的施加区域中提供均匀磁场，所述磁场基本上沿预定方向定向，其中所述线圈是非平面的，所述线圈被布置在管状线圈架上，并且所述预定方向垂直于管状线圈架的轴(X)。

2.根据权利要求1所述的粒子辐射治疗设备，其中所述线圈关于中平面(XZ)和反射平面(XY)对称布置，反射平面垂直于中平面，中平面和反射平面都沿线圈架的轴的方向(X)延伸，使得所述线圈具有相对于垂直于线圈架的轴以及中平面和反射平面的另一平面(YZ)的对称平面，并且其中所述线圈被配置成在操作中电流关于反射平面(XY)对称并且关于中平面(XZ)和另一平面(YZ)反对称，从而在施加区域中产生合成场，该合成场垂直于反射平面(XY)，并且基本上沿预定方向(Z)定向。

3.根据权利要求1或2所述的粒子辐射治疗设备，其中没有线圈存在于管状线圈架的通路区域中，所述通路区域以所述预定方向(Z)与管状线圈架的交叉点为中心。

4.根据任一前述权利要求所述的粒子辐射治疗设备，其中所述磁场生成装置适合用于磁共振成像系统中。

5.根据任一前述权利要求所述的粒子辐射治疗设备，被布置成线圈架和带电粒子射束源能够围绕线圈架的轴X旋转，使得带电粒子射束、磁场和预定方向都能从多个方向接近施加区域。

6.根据任一前述权利要求所述的粒子辐射治疗设备，进一步包括低温恒温器单元和梯度磁体组件，其中所述磁场生成装置位于低温恒温器中以提供能够实现线圈的超导性的工作温度，并且其中所述梯度磁体组件可操作用于提供横越预定平面的磁场以允许磁共振成像。

7.一种用于执行磁共振成像的方法，包括将带电粒子射束沿预定方向(Z)施加于施加区域的步骤，并且进一步包括在包括带电粒子射束的施加区域的成像体积中施加均匀磁场，所述磁场基本上沿预定方向定向，其中所述均匀磁场由布置在管状线圈架上的非平面线圈生成，并且其中所述预定方向(Z)垂直于管状线圈架的轴(X)。

8.根据权利要求7所述的方法，其中磁线圈关于中平面(XZ)和反射平面(XY)对称布置，反射平面垂直于中平面，中平面和反射平面都沿线圈架的轴的方向(X)延伸，使得所述线圈具有相对于垂直于线圈架的轴以及中平面和反射平面的另一平面(YZ)的对称平面，并且其中绕组被配置成在操作中电流关于反射平面(XY)对称并且关于中平面(ZX)和另一平面(YZ)反对称，从而在施加区域中产生合成场，该合成场垂直于反射平面(XY)，并且基本上沿预定方向(Z)定向。

9.根据权利要求7或8所述的方法，进一步包括以下步骤：将磁线圈冷却到能够实现线圈的超导性的温度，并且使电流在线圈中流动。

10.根据权利要求7-9中任一项所述的方法，其中没有线圈存在于管状线圈架的表面的通路区域中，所述通路区域以所述预定方向(Z)与管状线圈架的交叉点为中心。

11.根据任一前述权利要求所述的设备或方法，被布置用于执行离子射束治疗。