[发明专利]去电装置

说明书

技术领域

本发明涉及用来去除带电工件静电的去电装置，尤其涉及可对该工件进行近距离去电的去电装置。

背景技术

作为去除带电工件静电的装置，有众所周知的采用电晕放电方式的去电装置，其中脉冲DC方式的去电装置与其它方式相比，离子释放量多，是一种可用与单一高电压发生电路连接的多个放电针生成离子的方式，被广泛使用于棒状去电装置等处。

然而，采用脉冲DC方式的去电装置，由于其离子产生量多，因而相对于去电对象工件近距离(例如100mm以下)设置的情况下，由于对该工件释放出过多的离子，因而工件的表面电位相对于目标值OV，有时反而会在瞬间上升到500V左右。因此，当相对于工件，不得不把去电装置设置在近距离的情况下需考虑到工件表面电位的上升。

此外，由于放电针上外加脉冲性高电压，因而在将去电装置相对于去电对象工件近距离设置的情况下，存在因放电针的介电作用工件表面电位上升的问题。

还有，在现用的去电装置之中，由于是从喷嘴中直接向工件喷射离子化气体的，因而在有喷嘴的位置与无喷嘴的位置之间产生了气体流速不均及离子分布不均等，存在工件的去电难以均匀进行的问题。

发明内容

本发明的技术性课题是：提供一种去电装置，其即使在相对于工件近距离设置的情况下，仍可不使该工件表面电位极端性上升地进行去电。

本发明的其它技术课题是：提供一种去电性良好的去电装置，其可在消除向工件释放的离子化气体的局部流速不均及离子的分布不均的同时，通过调整离子释放量，均匀而又有效地对整个工件去电。

本发明的另一技术课题是：提供一种安全性良好的去电装置，其放电针不外露。

为了解决上述课题，本发明的去电装置，其特征在于，具有：

离子释放头，其配置有通过电晕放电释放离子的多个放电针以及在靠近这些放电针的位置上喷射气体的气体喷出口、

给上述放电针外加高电压的高电压发生电路、

控制该高电压发生电路的控制电路，

上述离子释放头具有覆盖所有上述多个放电针，由导电性多孔材料构成的放电针罩，通过使离子化的气体穿过该放电针罩释放到外部，使该整个离子释放头的离子释放均匀化，同时通过使该放电针罩吸收一部分产生的离子来调整离子的释放量。

具有此种构成的上述去电装置，由于可用上述放电针罩调整离子释放量，因而即使在相对于工件，近距离设置该去电装置进行去电的情况下，该工件的表面电位也不会极端性上升。此外通过上述放电针罩使离子化气体的流速在整个离子释放头内均匀化，可防止气体流速不均及离子分布不均等，可均匀而又有效地给该工件去电，去电性良好。而且由于上述放电针全部被上述放电针罩覆盖，因而安全性良好。

在本发明之中，最好采用以下结构：通过使上述放电针的端部和放电针罩之间留有空间，使气体在该空间内扩散后再从整个该放电针罩释放出。

此外，在本发明的理想例中，上述离子释放头呈细长条状，同时具有正负放电针共为一对的多对放电针，这些放电针以在该头的宽度方向上配置正负放电针的状态排列在该头的长度方向上，此外，在该离子释放头长度方向的一端安装有收容箱，该收容箱内收容了上述正负高电压发生电路和控制电路。

在此情况下，上述放电针罩也可采用以下结构：由剖面呈U字形的部件构成，在上述离子释放头的几乎整个长度方向上延伸，该放电针罩的表面构成用来使膜状的去电对象工件转换方向的导向面，能利用从该导向面喷出的气体，以非接触或低磨擦接触的形态导向上述去电对象工件。

此外，在本发明之中最好采用以下结构：上述放电针罩与控制电路连接，通过根据离子的吸收产生的该放电针罩的电位变化，用该控制电路控制上述高电压发生电路调整离子平衡。

(发明效果)

若采用上述本发明的去电装置，不仅可高效能地有效去除工件静电，即使在相对于该工件近距离设置的情况下，仍可不使该工件的表面电位极端性上升地进行该去电。

附图说明

图1是举例说明本发明涉及的去电装置的示意图。

图2是表示卸下图1的外罩状态的示意图。

图3是图1的A-A位置上的剖面图。

图4是表示利用本发明的去电装置，在近距离上给平面形工件去电的示意图。

图5是表示用本发明的去电装置边使连续的膜等工件方向转换边去电的示意图。

图6是与本发明的去电装置的电气连接有关的模式性剖面图。

图7是本发明涉及的去电装置中的电路图。

图中标号说明