[发明专利]用于流体控制装置的减振装置

说明书

技术领域

本公开内容主要涉及流体控制装置，更具体地涉及一种用于流体控制装置的减振装置。

背景技术

加工车间经常采用流体压力调节器来控制过程流体的压力和/或流速。一种常用类型的流体压力调节器为直接操作减压调节器。这种直接操作调节器典型地具有承载相对较高压力流体(例如，液体、气体、蒸汽等)的入口，所述相对较高压力流体在出口处被调节至较低的压力。在许多直接操作调节器中，弹簧偏置隔片连接到塞或其他可移动的流体流动控制构件，并且受到连接入口与出口的腔中的流体压力。

弹簧偏置隔片的运动导致塞或其他流体流动控制构件移动进入或离开设置在所述入口与腔之间的开口或座。更具体地，当腔中以及因此导致的出口处的压力升高时，隔片使得流体流动控制构件限制或截断从入口进入腔中的流体流动，这导致腔中和出口处的压力降低。相反地，当在腔中和出口处的压力降低时，隔片使得流体流动控制构件减少对于从入口进入腔中的流体流动的限制，这导致腔中和出口处的压力升高。通过改变施加于隔片的弹簧偏置量，调节器的压力平衡、控制点或设置点可被设置为实现所希望的出口压力，所述出口压力无论入口压力是否改变而保持大致恒定。

在特定的流体控制应用中，某些直接操作压力调节器的出口压力可能会改变(例如渐变或转向)或者变得不稳定(例如振荡)。一种特别成问题的流体控制应用需要一种清洁调节器的设计。清洁调节器的应用，例如食品和饮料加工、制药应用、生物工艺学应用等，经常需要一种在就位后便于完全净化与受控流体接触的调节器内部部件的调节器。其结果是，许多清洁调节器设计采用完全暴露于受控流体流动路径的隔片，从而使得在就位净化操作中将缝隙或被证实为难以清理的其他区域的数量最小化。不过，这样将隔片完全暴露于受控流体，使得整个隔片区域承受在调节器内经常出现的扰动流状况。其结果是，隔片可能会过度响应于流扰动，从而导致在所处位置中的不希望出现的波动或流动控制构件(例如塞)以及从而导致的调节器出口压力的不稳定性。

某些已知的流体调节器包含了减振器，以用于减少流动控制构件和输出压力的不希望出现的波动和/或不稳定性。某些这种已知的减振器被设置为轴衬或密封件，其围绕并且摩擦接合被连接到塞或其他流动控制构件的轴或杆。这种摩擦接合减少了调节器对于流扰动和/或其他可能对输出压力调节产生不利影响的振动源的敏感度。另一类已知的减振器采用设置在调节器壳体与下弹簧座之间的O形环。不过，许多这些已知的减振器需要使用润滑剂，这在清洁调节器应用中是不希望的，这是因为润滑剂可能会吸引和保留灰尘和其他残渣，从而难以或不可能将调节器净化至满足这些应用的清洁度要求所需的程度。进一步地，许多这些已知的减振器具有随温度显著变化的摩擦以及从而导致的减振特性，从而难以确保在将调节器暴露于相对较高和/或宽范围变化的温度的应用中的准确和稳定的调节。

发明内容

在一个示例性实施例中，一种流体控制装置，包括：壳体和活塞，该活塞具有外圆周表面，并被设置为响应于所述壳体内的压力以控制所述壳体内一流体流动控制构件的位置。所述流体控制装置还包括：导环，其连接到所述壳体并具有开口，所述开口被设置为容纳所述活塞的至少一部分；和减振器，其设置在所述导环与所述活塞之间，以摩擦接合所述活塞的外圆周表面。

在另一个示例性实施例中，一种在流体控制装置内使用的减振装置包括：具有内圆周表面的导环，外圆周表面，和远离所述外圆周表面延伸并设置为夹紧在一流体控制装置的各部分之间的边缘。所述导环还包括与内圆周表面成一体的座，其中，所述座被设置为使一从环保持与一活塞或一可移动弹簧座摩擦接合。

附图说明

图1是根据本公开内容的示教而构造的具有示例性减振装置的示例性压力调节器的截面图。

图2是图1所示的示例性减振装置的放大截面图。

图3是图1和图2所示的示例性减振装置的一部分的立体图。

具体实施方式