[发明专利]热循环器有效
| 申请号: | 200680021179.2 | 申请日: | 2006-03-04 |
| 公开(公告)号: | CN101198409A | 公开(公告)日: | 2008-06-11 |
| 发明(设计)人: | H·塔施;B·克吕格 | 申请(专利权)人: | 埃佩多夫股份公司 |
| 主分类号: | B01L7/00 | 分类号: | B01L7/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 沈英莹 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 循环器 | ||
技术领域
本发明涉及一种在权利要求1的前序部分中所述的热循环器。
背景技术
在其中可进行PCR反应的通用的设备称为“热循环器”。PCR是已发表的、专业人士已知的一种方法的缩写,在该方法中通过聚合酶可以有针对性地扩增在一样品中包含的目标核酸。
本发明涉及热循环器,通过此装置在实时模式中可以扩增的产品随着时间的增长。此种热循环器具有一基体,在此基体上构成一适合实施PCR-反应的可恒温处理的用于反应容器的容纳区域。
此外设置一盖板,其从一开放的位置移动到一在容纳区域上方的工作位置。在盖板上设置一光学单元,此光学单元在工作位置与容纳区域相对置并且光照射到反应容器中和/或可接受从反应容器中射出的光。
通常在实时-PCR沉积物中包含荧光颜料,并且光学单元发出激发光到反应容器中且接收可能发射出来的荧光。
通常情况下在光学单元中规定多个光路,其中每个光路配设于在容纳区域中的用于反应容器的容纳部。为了保证无误差的测量,重要的是,光学单元和容纳区域在PCR的反应时精确地相互校准。
从工厂的预调整在大多数情况下是不可能的。因此盖板和基体由于其重量的原因在原则上是分开运输的。此外基体不必局限地用于实时方法中,而是可以多次地与其他的盖板一起用于普遍的PCR-方法中。
在一系列的应用场合中,只要在两个单元离开工厂后,盖板才随后被安装在基体上。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种热循环器,在此热循环器中即使在盖板随后安装到基体上时也可以以一种特别简单的方式实现光学单元和容纳区域持久的调整。
该目的通过一具有权利要求1的特征的装置实现。
在按本发明的热循环器中设定,光学单元和/或容纳区域有间隙地容纳在盖板和基体上。此间隙如此设计,使得对于光学单元相对于容纳区域调整足够的在光学单元和容纳区域之间的相对运动是可能的。
此外在基体和盖板上各设置至少两个定位装置,在基体上的每个定位装置分别配设于在盖板上的定位装置。相应地两个互相配设的定位装置中的至少一个在其位置方面相对于容纳区域或者光学单元可调节且在一调节好的位置上相对于容纳区域和/或光学单元可位置不变地固定。
本发明的主要效果是,容纳区域和/或光学单元有间隙地设置在盖板和基体中,这样例如在安装盖板之后或在安装盖期间的调整完全才可能。此调整可例如,如下提及的,通过量规(Lehre)实现,此量规放在容纳区域上并且然后当盖板下降到工作位置上时调节好地对准光学单元。
设置定位装置,因此光学单元和容纳区域的调节好的位置在热循环器的运行中可重复和可调节,而无需重新校准。
在校准过程中,在本发明中的循环器内设置的定位装置成双地互相对准且然后固定在可占据的位置,就其例如可移动的容纳。在固定后,所有的定位装置在其位置方面相对于容纳区域及光学单元是固定不变的。在设备运行中足够的是,定位装置互相对准,然后使得光学单元和容纳区域自动地互相校准。本发明有利的实施例在从属权利要求中描述。
所提及的调整在实时模式的运行中实现。为了无需成本高地构造基体,此基体无须强制性地在实时模式中运转,有意义的是,用于校准必要的设备仅仅设置在盖板中。因此一优选的实施样式设定,只有光学单元有间隙地容纳在盖板上,而容纳区域固定在基体中。
可考虑的是,一系列的不同的、合适的定位装置。可能的是,例如定位装置仅仅涉及可探测到的标识,这些标识相应地在将盖板置于其工作位置时必须互相对中。可以考虑的是,在基体中发光二极管设置作为定位装置同时在盖板中配设穿孔模板。通过探测设备可测量通过穿过模板中的穿孔的光强度且为了调节已校准的位置,通过例如光学单元移动到一个最大值上来调节光强度。也可考虑的是,磁性的或电子的定位装置,以便仅列出一些示例。
然而优选地设置定位装置,所述定位装置当将盖板置于工作位置时被导引嵌入,然后容纳区域和光学单元自动地在校准好的位置互相对准。
,一特别优选的本发明的实施样式在这一方面设定,例如在基体上设置作为定位装置的导向销钉,此导向销钉与在盖板上的套筒实现形锁合地嵌接。
如上面已提及的,由于基体不是必须仅为实时目的使用,例如可如此设定,不但光学单元有间隙地容纳在盖板上,而容纳区域固定在基体上时,而且同样地在盖板上设置的定位装置在其相对于光学单元的距离方面设计为可调节的且可固定的,而在基体上的定位装置是不可调节的,亦即设计为永久位置不变的。
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