[发明专利]与透明材料和硅基无定型材料有关的技术部件或装饰部件及制造该部件的方法

权利要求书

1.技术和/或装饰作用的部件，包括一个透明基底(20)，其至少一个面(11，12)或者在其厚度中进行不透明，半透明或透明的有颜色或没有颜色的沉积(23-30)，其特征在于，透明基底(10)是一种可抵抗高于500℃的温度的材料，并且不透明半透明的沉积(23-30)由釉瓷层形成。

2.根据权利要求1所述的部件，其特征在于，形成玻璃的透明材料是单晶或者多晶材料，例如石英，尖晶石或刚玉。

3.根据权利要求2所述的部件，其特征在于，形成玻璃的材料是蓝宝石。

4.根据权利要求1所述的部件，其特征在于，形成玻璃的透明材料是无定型材料，例如无机玻璃。

5.根据权利要求1所述的部件，其特征在于，透明基底(10)在挖空部分(13，14)的表面中的至少一个上包括改变釉瓷层的厚度以改变给定釉瓷色度的颜色，甚至使所述釉瓷层半透明。

6.根据权利要求1所述的部件，其特征在于，釉瓷层形成在所述部件的可见面(11)上。

7.根据权利要求1所述的部件，其特征在于，釉瓷层形成在所述部件的与可见面相对的背面(12)上。

8.根据权利要求1所述的部件，其特征在于，釉瓷层形成在所述部件的两个面(11和12)上。

9.根据权利要求8所述的部件，其特征在于，可见面(11)上的釉瓷层占据了背面(12)上釉瓷层占据区域的互补区域。

10.根据权利要求8所述的部件，其特征在于，可见面(11)的釉瓷层和背面(12)上的釉瓷层有覆盖区域。

11.根据权利要求9或10所述的部件，其特征在于，可见面(11)上的釉瓷层具有与背面(12)上的釉瓷层所不同的色度。

12.根据权利要求1所述的部件，其特征在于，在透明基底(10)厚度中形成的凹槽(15)中实行釉瓷沉积(25)。

13.根据权利要求1所述的部件，其特征在于，透明基底(10)的可见面(11)被结构化并且用半透明釉瓷层覆盖来形成全自图(21)。

14.根据权利要求1所述的部件，其特征在于，还包括穿过透明基底和釉瓷层的通道(6)。

15.根据权利要求1所述的部件，其特征在于，某些区域在釉瓷层沉积以前金属化被标或覆盖装饰(4)。

16.根据权利要求1所述的部件，其特征在于，包括基底是完全透明的区域中的背光装置(9)或包括半透明釉瓷层。

17.根据权利要求16所述的部件，其特征在于，背光装置(9)从二极管和电致发光元件中选择。

18.根据前述权利要求任一项所述的部件，其特征在于，形成了手表的表盘。

19.生产包括由可抗高于500℃温度的材料制成的透明基底(10)并且基底的至少一个面(11，12)或者厚度中进行由不透明，或半透明的釉瓷层构成的沉积(23-30)的技术或装饰部件的方法，所述生产方法包括下述步骤：

-至少在一个面(11，12)上加工挖空部分(13，14)或在厚度中加工凹槽(15)或结构化所述面；

-通过连续沉积和烘烤，至少填充挖空部分(13，14)或者凹槽(15)和/或覆盖可能被结构化的面的整个表面，并且

-抛光包含釉瓷沉积的区域。

20.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，形成透明基底(10)的材料从可以抵抗高于500℃，最好700℃-1300℃的材料中选择。

21.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，形成透明基底(10)的材料是蓝宝石。