[发明专利]包含不超过两层不同有机材料的有机发光二极管有效

专利信息
申请号: 200680020598.4 申请日: 2006-06-09
公开(公告)号: CN101194379A 公开(公告)日: 2008-06-04
发明(设计)人: 戴维·沃夫里;让-克劳德·马丁内斯;萨尔瓦托·西纳 申请(专利权)人: 汤姆森特许公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 包含 不超过 不同 有机 材料 发光二极管
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种有机发光二极管。本发明还涉及一种包括由相同基板支撑的这些二极管的网络的照明或图像显示面板。

背景技术

文献EP0498979B1-TOSHIBA公开了一种有机发光二极管,包括:

基板;

由导电材料M1制成的阴极和由导电材料M2制成的阳极;

与该阴极接触、基于n型掺杂的第一有机材料O1的第一层;

与该阳极接触、基于p型掺杂的第二有机材料O2的第二层;以及

夹置于该第一层和第二层之间、基于既非n型掺杂也非p型掺杂的第三有机材料O3的第三层。

参考图1,文献US2004-062949-NOVALED和US6566807往这种掺杂层的结构添加了阻挡层:夹置于空穴注入层O2和电致发光层O3之间的材料O4的电子阻挡层,以及夹置于电子注入层O1和电致发光层O3之间的材料O5的空穴阻挡层。

这些文献说明了不同层的各种有机材料必需的电子性能。

为了定义这些性能,特别定义了下述参数:

阴极的导电材料的功函数EM1和阳极的导电材料的功函数EM2

LUMO能级(最低未占据分子轨道)的能量及HOMO能级(最高占据分子轨道)的能量:对于n型掺杂层的基础材料O1,分别为EO1C、EO1V;对于空穴阻挡层的基础材料O5,分别为EO5C、EO5V;对于电致发光层的基础材料O3,分别为EO3C、EO3V;对于电子阻挡层的基础材料O4,分别为EO4C、EO4V;以及对于p型掺杂层的基础材料O2,分别为EO2C、EO2V;所有这些能级都是相对于真空中无穷远处电子能量估算为正的(与功函数相同的基准)。

如图1所示,根据这些文献为了获得二极管的最优工作,重要的是:

EM1≥EO1C,这意味着在阴极和n型掺杂有机层之间的界面存在势能势垒,且在该界面的结不是欧姆结;该势能势垒的高度可以限制在0.5eV,或者对于更高势垒的情形,掺杂水平可以相应地调整从而有利于电子穿过该势垒;如果EO1F表示为占据能级的质心的掺杂区域中电子的费米能级,则优选地该掺杂水平应使得EO1F≥EM1

EM2≤EO2V,这意味着在阳极和p型掺杂有机层之间的界面存在势能势垒,且在该界面的结不是欧姆结;该势能势垒的高度可以限制在0.5eV,或者对于更高势垒的情形,掺杂水平可以相应地调整从而有利于空穴穿过该势垒;如果EO2F表示为占据能级的质心的掺杂区域中空穴的费米能级,则优选地该掺杂水平应使得EO2F≤EM2

根据上述条件,载流子即电子或空穴因此通过隧道效应被注入穿过位于该掺杂区域中的紧邻与电极即阴极或阳极的界面的所谓“耗尽区”;此外,如文献EP0498979B1(第9页,第11-12行)中所教导,该“耗尽区”的厚度非常薄,即,通常小于10nm;该厚度明显依赖于所使用的材料以及掺杂水平。

如图1所示,为了获得二极管的最优工作,另外重要的是:

EO5C≥EO1C-0.3eV,从而有利于电子穿过材料O1的n型掺杂层和材料O5的空穴阻挡层之间的界面,且优选地EO5C≤EO1C+0.3eV,从而限制在该界面的电损耗;

EO4V≤EO2V+0.3eV,从而有利于空穴穿过材料O2的p型掺杂层和材料O4的电子阻挡层之间的界面,且优选地EO4V≥EO2V-0.3eV,从而限制在该界面的电损耗;

如图1所示,为了获得二极管的最优工作,另外重要的是:

EO4C<EO3C,从而有效地将电子阻挡在材料O3的电致发光层和材料O4的电子阻挡层之间的界面;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于汤姆森特许公司,未经汤姆森特许公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680020598.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top