[发明专利]离子束角度处理控制的技术

权利要求书

1.一种用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的方法，包括：

将一个或多个离子束导向基板表面处；

判定一个或多个所述离子束撞击所述基板表面的入射角的平均扩散；以及

至少部分地基于所述入射角的所述平均扩散调整一个或多个所述离子束，以产生离子束入射角的所要扩散。

2.如权利要求1所述的用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的方法，还包括测量一个或多个所述离子束中的每一者的所述入射角及固有角度扩散。

3.如权利要求1所述的用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的方法，还包括基于光束线元件参数的理论模型估计所述入射角的所述平均扩散。

4.如权利要求1所述的用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的方法，还包括借由原位计量法测量所述入射角的所述平均扩散。

5.如权利要求1所述的用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的方法，还包括：

在注入处理期间，实质上即时地测量所述入射角的所述平均扩散；以及基于即时测量，动态地调整一个或多个所述离子束。

6.一种实施于至少一个载波中的信号，用以传输指令的电脑程序，所述指令的电脑程序经组态以可借由至少一个处理器读取，以便指令至少一个所述处理器执行用以执行如权利要求1所述的用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的方法的电脑处理。

7.一种用以储存指令的电脑程序的处理器可读载体，所述指令的电脑程序经组态以可借由至少一个处理器读取，以便指令至少一个所述处理器执行用以执行如权利要求1所述的用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的方法的电脑处理。

8.一种用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的系统，包括：

用以将一个或多个离子束导向基板表面处的构件；

用以判定一个或多个所述离子束撞击所述基板表面的入射角的平均扩散的构件；以及

用以至少部分地基于所述入射角的所述平均扩散调整一个或多个所述离子束以产生离子束入射角的所要扩散的构件。

9.如权利要求8所述的用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的系统，还包括：

用以测量所述一个或多个离子束中的每一者的入射角及固有角度扩散的构件。

10.如权利要求8所述的用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的系统，还包括用以基于光束线元件参数的理论模型估计所述入射角的所述平均扩散的构件。

11.如权利要求8所述的用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的系统，还包括用以借由原位计量法测量所述入射角的所述平均扩散的构件。

12.如权利要求8所述的用于离子注入机系统中的离子束角度处理控制的系统，还包括：

用以在注入处理期间实质上即时地测量所述入射角的所述平均扩散的构件；以及

用以基于即时测量动态地调整一个或多个所述离子束的构件。