[发明专利]新颖的聚硅氧烷遮光剂有效
| 申请号: | 200680019464.0 | 申请日: | 2006-05-23 |
| 公开(公告)号: | CN101189045A | 公开(公告)日: | 2008-05-28 |
| 发明(设计)人: | 卡特加·比格-舒尔茨;亚历山大·波斯卡罗;于尔根·H·沃勒哈特 | 申请(专利权)人: | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 |
| 主分类号: | A61Q17/04 | 分类号: | A61Q17/04;A61K8/897;C08G77/26;C08G77/16;C08G77/388 |
| 代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李剑 |
| 地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 新颖 聚硅氧烷 遮光 | ||
本发明涉及以聚硅氧烷为基础的新颖的遮光剂,涉及它们的制备及用途,特别是在用于防护阳光的有害效应的配方中的用途。
在暴露于数量日增的有害阳光下的人群中,对遮光保护剂存在持续增长的需要。重复暴露于阳光可引起称为光老化皮肤的皮肤改变。在光老化皮肤中观察到的临床改变与身体免于阳光照射的位点中正常老化皮肤的改变不同。皮肤受到强烈阳光照射的损伤性结果中,存在增加的皱纹、弹性组织变性、色素改变、癌前期皮肤病损和癌性皮肤病损。
过去已开发出许多遮光化学品用于防护UVA(320-400nm)和/或UVB(290-320nm)波长的有害效应。最近已开发出一类新的遮光化学品——宽带UV滤光剂,其防护皮肤免受UV-A和UV-B的辐射。这些化学品已被单独地或相互组合地掺入广泛已知和使用的化妆品或药物制剂中。但是,需要开发甚至更加有效的遮光化学品和含有它们的制剂,以及它们更加简单经济的化学合成,特别是由于预期地球臭氧层的进一步缺失,要忍耐并发的数量递增的UVA和UVB及甚至更短的波长(UVC)。
因此本发明提供新的基于聚硅氧烷的遮光剂化合物、用于制备它们的方法和含有它们的化妆品或药物组合物。
更具体地,本发明的新化合物是每个分子中含有一定量以下结构单元的、经取代的聚硅氧烷,即
一个式(H3C)3-Si- (I)的单元;
一个式-O-Si(CH3)3 (II)的单元;
至少两个选自(A)、(B)、(C)和(D)的单元,其中
(A)为0到100个,优选地5到60个以任意顺序的下述单元,所述单元彼此相同或不同,并选自式
-O-Si(CH3)[CH(CH3)R1]- (IIIa)、
-O-Si(CH3)(CH2-CH2-R1)- (IIIb)、
-O-Si(CH3)[C(=CH2)R1]- (IIIc),和
-O-Si(CH3)(CH=CH-R1)- (IIId),
(B)为0到100个,优选地5到60个以任意顺序的下述单元,所述单元彼此相同或不同,并选自式
-O-Si(CH3)[CH(CH3)R2]- (IVa)、
-O-Si(CH3)(CH2-CH2-R2)- (IVb)、
-O-Si(CH3)[C(=CH2)R2]- (IVc),和
-O-Si(CH3)(CH=CH-R2)- (IVd),
(C)为0到100个,优选地5到60个以任意顺序的下述单元,所述单元彼此相同或不同,并选自式
-O-Si(CH3)[CH(CH3)R3]- (Va)、
-O-Si(CH3)(CH2-CH2-R3)- (Vb)、
-O-Si(CH3)[C(=CH2)R3]- (Vc),和
-O-Si(CH3)(CH=CH-R3)- (Vd),
(D)为0到100个,优选地5到60个以任意顺序的下述单元,所述单元彼此相同或不同,并选自式
-O-Si(CH3)[CH(CH3)R4]- (VIa)、
-O-Si(CH3)(CH2-CH2-R4)- (VIb)、
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