[发明专利]光散射盘、其用途以及波阵面测量设备

权利要求书

1.光学散射盘，包括：

-透明基底(1)以及

-与基底表面相邻接并具有光散射活性颗粒(3)的光散射层(2)，

其中

-光散射层(2)，该光散射层(2)具有较空气更为光学密集并表面地邻接基底(1)的衬面的包埋介质(4)，并且包埋介质(4)还包围光散射活性颗粒(3)。

2.如权利要求1所述的光学散射盘，其中包埋介质的折射率达到基底的折射率的至少接近80％和/或小于光散射活性颗粒的折射率。

3.如权利要求1或2所述的光学散射盘，其中光散射活性由不会改变散射辐射的频率的粒状的、单纯散射材料形成或者由粒状量子转换材料形成。

4.如权利要求1-3任一项所述的光学散射盘，其中包埋介质是液体材料，光散射活性颗粒悬浮或溶解在液体包埋介质中或形成固体和/或烘干和/或多孔的复合物，而液体包埋介质在该复合物周围流动；或者包埋介质是将光散射活性颗粒包埋在其中的固体材料。

5.如权利要求1-4任一项所述的光学散射盘，其中选择包埋介质使得其折射率与基底/包埋介质界面的全反射的预定角度相适配。

6.如权利要求1-5任一项所述的光学散射盘，其中包埋介质是通过粘附而固定在基底上或被密封的液体。

7.如权利要求6所述的光学散射盘，其中包埋介质在空腔中是静态的或流动的。

8.如权利要求1-7任一项所述的光学散射盘，其中光散射活性颗粒被松散地、可移动的形式或被束缚的形式粘附在颗粒载体基底上的包埋介质松散包围。

9.如权利要求8所述的光学散射盘，其中光散射活性颗粒在液体包埋介质中是松散的、可移动的形态的，并具有使光散射活性颗粒移动的装置。

10.如权利要求9所述的光学散射盘，其中颗粒移动装置包括一个单元，该单元使液体包埋介质产生主动流动和/或使光散射活性颗粒产生主动运动和/或使额外添加到包埋介质中的辅助颗粒产生主动运动。

11.用途，所述用途是指如权利要求1-10任一项所述的光学散射盘用于确定成像色差测量的光学系统的设备。

12.用来测量待检试样干涉波阵面的设备，包括：

-设置在光束路径中待检试样(8)下游的衍射光栅(9)以及

-设置在衍射光栅下游的探测器元件(10)，

其特征在于，具有：

-如权利要求1-10任一项所述的光学散射盘(11)，该光学散射盘(11)位于衍射光栅(9)和探测器元件(10)之间，衍射光栅位于与光散射层(11b)相对的散射盘基底(11a)的表面上，或者位于散射盘基底邻接的其自身的光栅基底上。

13.如权利要求12所述的设备，其中该设备被设计成横向切变干涉仪。

14.如权利要求12所述的设备，其中该设备被设计成点衍射干涉仪。

15.如权利要求12所述的设备，其中该设备被设计成Shack-Hartmann传感器。

16.如权利要求12-15任一项所述的设备，其中散射盘借助其光散射层与探测器元件紧密接触，或者其光散射层与探测器元件相分隔开，并通过粘附固定在公共光栅/散射盘基底的探测器一侧表面上，在其面对待检试样的表面上设置有衍射光栅。

17.如权利要求12-16任一项所述的设备，其中浸没介质(13)位于衍射光栅和待检试样之间。

18.如权利要求12-17任一项所述的设备，其中待检试样是显微光刻投影物镜(8)。

19.显微光刻投影曝光设备，包括投影物镜(8)，其特征在于在投影物镜的辐射输出侧上以给定的时间间隔设置了如权利要求1-10任一项所述的光学散射盘。

20.如权利要求19所述的显微光刻投影曝光设备，其中投影物镜在其辐射输出侧具有至少0.9的数值孔径，优选具有至少1.0的数值孔径。

21.如权利要求19或20所述的显微光刻投影曝光设备，其中形成投影物镜用来与浸没介质一起工作，优选是浸没液体。