[发明专利]具有扩展的π-共轭体系的光致变色材料及包括它们的组合物和制品有效
申请号: | 200680016429.3 | 申请日: | 2006-02-21 |
公开(公告)号: | CN101176037A | 公开(公告)日: | 2008-05-07 |
发明(设计)人: | B-K·金;邓军;肖文静;B·范格梅特;A·卓普拉 | 申请(专利权)人: | 光学转变公司 |
主分类号: | G03C1/73 | 分类号: | G03C1/73;C09K9/02;G02B5/23;C07D279/06;C07D311/92;C07D319/04;C07D339/06;C07D339/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 龙传红 |
地址: | 美国佛*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 扩展 共轭 体系 变色 材料 包括 它们 组合 制品 | ||
1.光致变色材料包含:
(i)茚并稠合萘并吡喃;和
(ii)在该茚并稠合萘并吡喃的11位与其键接的扩展该茚并稠合萘并吡喃的π-共轭体系的基团,条件是如果在该茚并稠合萘并吡喃的11位键接的基团和在该茚并稠合萘并吡喃的10位或12位键接的基团一同形成稠合基团,则所述稠合基团不是苯并稠合的基团;和
其中该茚并稠合萘并吡喃的13位是未取代、一取代或二取代的,条件是如果该茚并稠合萘并吡喃的13位是二取代的,则该取代基不一同形成降冰片基。
2.权利要求1的光致变色材料,其中该光致变色材料包括茚并[2′,3′:3,4]萘并[1,2-b]吡喃、茚并[1′,2′:4,3]萘并[2,1-b]吡喃或其混合物。
3.权利要求1的光致变色材料,其中所述光致变色材料具有通过在320nm-420nm的波长范围内,包括端点,将该光致变色材料的消光系数对波长的曲线积分测定的大于1.0×106nm×mol-1×cm-1的积分消光系数。
4.权利要求3的光致变色材料,其中该积分消光系数为至少1.3×106nm×mol-1×cm-1。
5.权利要求3的光致变色材料,其中该积分消光系数为1.1×106nm×mol-1×cm-1至4.0×106nm×mol-1×cm-1。
6.权利要求1的光致变色材料,其中与包含类似的茚并稠合萘并吡喃但没有在该类似的茚并稠合萘并吡喃的11位与其键接的扩展其π-共轭体系的基团的光致变色材料相比,该光致变色材料显示对波长320nm-420nm的电磁辐射的增色吸收。
7.权利要求1的光致变色材料,其中与包含类似的茚并稠合萘并吡喃但没有在该类似的茚并稠合萘并吡喃的11位与其键接的扩展其π-共轭体系的基团的光致变色材料的电磁辐射的闭合形式吸收谱相比,该光致变色材料具有向红移的电磁辐射的闭合形式吸收谱。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光学转变公司,未经光学转变公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680016429.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:计算机系统及其控制方法
- 下一篇:光致抗蚀剂元件的形成方法