[发明专利]用于竖直分级聚合反应器的固定薄膜生成器与薄膜支撑结构系列有效
申请号: | 200680015362.1 | 申请日: | 2006-04-25 |
公开(公告)号: | CN101247887A | 公开(公告)日: | 2008-08-20 |
发明(设计)人: | L·C·温德斯;W·S·穆尔多奇;T·L·尤恩特;P·K·谢雷尔;R·G·邦纳;C·S·斯劳特 | 申请(专利权)人: | 伊士曼化工公司 |
主分类号: | B01J19/24 | 分类号: | B01J19/24;B01J19/00;B01J10/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 丁建春;刘华联 |
地址: | 美国田*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 竖直 分级 聚合 反应器 固定 薄膜 生成器 支撑 结构 系列 | ||
1.一种用于使聚合物熔体聚合的竖直安置的重力流驱动聚合反应器的管束组件,所述管束组件包括:
一个或多个薄膜支撑结构的第一固定阵列,定向所述一个或多个薄膜支撑结构的第一固定阵列以具有带一致间隙的连续水平间隔的大体上竖直的表面,每一薄膜支撑结构具有第一侧面与第二侧面;以及
一个或多个固定薄膜生成器,其定位于所述薄膜支撑结构的第一固定阵列上方,其将所述聚合物熔体细分并且将其引导到所述薄膜支撑结构上;
使得当聚合物熔体流经所述管束组件时,所述细分的聚合物熔体的第一部分在重力的作用下从每一薄膜支撑结构的所述第一侧面流过且所述聚合物熔体第二部分在重力的作用下从每一薄膜支撑结构的所述第二侧面流过。
2.根据权利要求1所述的管束组件,其中所述大体上竖直的表面大体上为平行的。
3.根据权利要求1所述的管束组件,其中每一薄膜支撑结构相对于水平面以大于或等于大约60度的角度定位。
4.根据权利要求1所述的管束组件,其中每一薄膜支撑结构相对于水平面以大于大约80度的角度定位,所述薄膜支撑结构的固定阵列通过排列以形成一行或多行,每一行具有定位于相同高度的水平间隔的薄膜支撑结构。
5.根据权利要求1所述的管束组件,其另外包括薄膜支撑结构的一个或多个额外的固定阵列,所述额外固定阵列各被排列成一个或多个额外竖直排列的行,每一行具有在相等高度定位的水平间隔的薄膜支撑结构,其中所述额外阵列包括最低固定阵列使得所述管束组件适合于允许所述聚合物熔体从所述第一固定阵列流到所述最低固定阵列。
6.根据权利要求1所述的管束组件,其中所述薄膜支撑结构阵列的每一薄膜支撑结构包括固体板。
7根据权利要求1所述的管束组件,其中所述薄膜支撑结构阵列的每一薄膜支撑结构包括有孔的薄膜支撑结构。
8.根据权利要求7所述的管束组件,其中所述薄膜支撑结构阵列的每一有孔薄膜支撑结构包括金属丝布或金属丝网、网筛、穿孔金属板或金属网薄板。
9.根据权利要求8所述的管束组件,其中所述有孔薄膜支撑结构具有大约0.25英寸至大约3英寸的开口。
10.根据权利要求1所述的管束组件,其中所述薄膜支撑结构阵列的每一薄膜支撑结构包括大体上竖直并大体上平行的金属丝、杆或管的集合。
11.根据权利要求1所述的管束组件,其中所述薄膜支撑结构阵列的邻近薄膜支撑结构之间的水平间隔距离使得当所述聚合熔体流经所述管束组件时,在稳态操作期间,所述细分的和独立的聚合物熔体流中的每一者具有每一薄膜支撑结构之间的距离的至少10%的厚度。
12.根据权利要求1所述的管束组件,其中所述薄膜支撑结构阵列的每一薄膜支撑结构以大约0.5英寸到大约10英寸的距离与水平邻近的薄膜支撑结构分隔。
13.根据权利要求1所述的管束组件,其中所述聚合物熔体薄膜生成器形成一个或多个聚合流用于构成在所述薄膜生成器的直接下方的所述薄膜支撑结构阵列的每一薄膜支撑结构。
14.一种聚合反应器,其包括放置到竖直安置的安全壳内的根据权利要求1所述的管束组件。
15.根据权利要求1所述的管束组件,其中所述一个或多个支撑结构包括选自包括具有圆筒形状的结构、具有螺旋形状的结构和具有大体上竖直但并不平行的平面的结构的群。
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