[发明专利]具有减少缺陷的表面的微复制物品

权利要求书

1.一种微复制物品，包括：

具有第一和第二相反的表面的柔性基体；

在所述第一表面上的第一涂布微复制图案；以及

在所述第二表面上的第二涂布微复制图案；

其中，所述第一涂布微复制图案和第二涂布微复制图案在10微米范围内配准，并且所述第一涂布微复制图案或第二涂布微复制图案包括减少缺陷或减少浸透的特征。

2.如权利要求1所述的微复制物品，其中，所述减少缺陷或减少浸透的特征包括沿着所述第一涂布微复制图案或第二涂布微复制图案的至少选定的图案元件的长度的变化高度，所述变化高度包括沿着所述至少选定的图案元件的长度设置的多个局部高度最大值和局部高度最小值，并且所述变化高度具有小于第一数值的局部高度最大值和局部高度最小值之间的平均高度差。

3.如权利要求2所述的微复制物品，其中，所述第一数值在从0.5微米到5微米的范围内。

4.如权利要求2所述的微复制物品，其中，所述第一数值在从1微米到2微米的范围内。

5.如权利要求2到4所述的微复制物品，其中，所述减少缺陷和减少浸透的特征包括在50微米到100微米范围内沿着所述变化高度长度的局部高度最大值之间的平均间隔。

6.如权利要求1到5所述的微复制物品，其中，所述第一涂布微复制图案包括多个棱镜，而所述第二涂布微复制图案包括多个柱面镜。

7.如权利要求1到6所述的微复制物品，其中，所述微复制物品具有在75微米到400微米范围内的总高度。

8.如权利要求1到7所述的微复制物品，其中，所述第一涂布微复制图案和第二涂布微复制图案具有在50微米到150微米范围内的重复周期。

9.如权利要求1到8所述的微复制物品，其中，所述第一和第二图案在横跨片材方向在5微米内配准。

10.如权利要求1到9所述的微复制物品，其中，所述减少缺陷和减少浸透的特征包括沿着所述第一涂布微复制图案的至少选定的图案元件的长度的第一变化高度，以及沿着所述第二涂布微复制图案的至少选定的图案元件的长度的第二变化高度，所述第一变化高度包括沿着所述第一涂布微复制图案的至少选定的图案元件的长度设置的第一多个局部高度最大值和局部高度最小值，并且所述第一变化高度具有小于第一数值的沿着所述第一涂布微复制图案的至少选定的图案元件的长度设置的所述局部高度最大值和局部高度最小值之间的第一平均高度差，所述第二变化高度包括沿着所述第二涂布微复制图案的至少选定的图案元件的长度设置的第二多个局部高度最大值和局部高度最小值，并且所述第二变化高度具有小于第二数值的沿着所述第二涂布微复制图案的至少选定的图案元件的长度设置的所述局部高度最大值和局部高度最小值之间的第二平均高度差。

11.一种制造包括多个微复制透镜元件的微复制物品的方法，所述方法包含：

提供片材状的具有第一和第二相反的表面的基体；以及

将所述基体传递通过卷轴式流延设备来在第一表面上形成第一涂布微复制图案，并在第二表面上形成第二涂布微复制图案；

其中，所述第一涂布微复制图案和第二涂布微复制图案在10微米方向内配准，并且所述第一涂布微复制图案和第二涂布微复制图案形成多个透镜元件，所述透镜元件包括减少缺陷或减少浸透的特征。

12.如权利要求11所述的方法，其中，所述传递步骤包含将基体传递通过卷轴式流延设备来形成多个透镜元件，其中所述减少缺陷或减少浸透的特征包括沿着所述第一涂布微复制图案或第二涂布微复制图案的至少选定的透镜元件的长度的变化高度，所述变化高度包括沿所述至少选定的透镜元件的长度设置的多个局部高度最大值和局部高度最小值，并且所述变化高度具有在从0.5微米到5微米范围内的所述局部高度最大值和局部高度最小值之间的平均高度差。

13.如权利要求12所述的方法，其中，所述传递步骤包含将基体传递通过卷轴式流延设备来形成多个透镜元件，其中所述减少缺陷或减少浸透的特征包括在50微米到100微米范围内的局部高度最大值之间的平均间隔。