[发明专利]形成多层涂膜的方法无效
| 申请号： | 200680010973.7 | 申请日： | 2006-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN101218313A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 金子敏雄;冈本聪;蓬原正伸;道井诚;冈田荣作;仁藤丈裕 | 申请（专利权）人： | 日本油漆株式会社;丰田自动车株式会社 |
| 主分类号： | C09D5/44 | 分类号： | C09D5/44;C25D9/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 周铁;韦欣华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 多层 方法 | ||
1.一种用于形成多层涂膜的方法，包括：
将待涂覆的材料浸入含水涂料组合物的步骤，所述含水涂料组合物包含(A)稀土金属化合物，(B)具有阳离子基团的基础树脂，和(C)固化剂，其中在含水涂料组合物中，基于涂料组合物的固体含量以稀土金属计稀土金属化合物(A)的含量是0.05-10wt％；
在所述含水涂料组合物中施加小于50V的电压的预处理步骤，其中所述待涂覆的材料用作阴极；和
在所述含水涂料组合物中施加50-450V的电压的电沉积涂覆，其中所述待涂覆的材料用作阴极。
2.根据权利要求1所述的形成多层涂膜的方法，其中含水涂料组合物进一步包含(D)铜化合物或(E)锌化合物。
3.根据权利要求1所述的形成多层涂膜的方法，其中在所述预处理步骤中，源自稀土金属化合物(A)的电解反应产物存在的量不小于5mg/m2。
4.根据权利要求2所述的形成多层涂膜的方法，其中在所述预处理步骤中，源自稀土金属化合物(A)和铜化合物(D)的电解反应产物，或者源自稀土金属化合物(A)和锌化合物(E)的电解反应产物，存在的量不小于5mg/m2。
5.根据权利要求1所述的形成多层涂膜的方法，其中在所述预处理步骤中，通电时间为10-300秒。
6.根据权利要求1所述的形成多层涂膜的方法，其中在所述电沉积涂覆步骤中，通电时间为30-300秒。
7.根据权利要求1所述的形成多层涂膜的方法，其中所述含水涂料组合物的pH值为5-7，电导率为1500到4000μS/cm。
8.根据权利要求1所述的形成多层涂膜的方法，其中所述稀土金属化合物(A)是含有至少一种选自由铈(Ce)，钇(Y)，钕(Nd)，镨(Pr)和镱(Yb)组成的组中的稀土金属的化合物。
9.由权利要求1-8的任一项所述的形成多层涂膜的方法得到的多层涂膜。
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