[发明专利]氧化铈系研磨材料、其制造方法及用途

权利要求书

1.一种氧化铈系研磨材料的制造方法，其包括：

(a)在含铈的轻稀土类盐的水溶液中添加沉淀剂，使轻稀土类的盐析出，得到含有平均粒径为0.1～3μm的轻稀土类盐粒子的第1浆液的工序；

(b)在含有平均粒径为0.1～3μm的轻稀土类盐粒子的浆液中添加氟化剂，使轻稀土类的盐和氟化剂反应，得到含有平均粒径为0.1～3μm的轻稀土类氟化物粒子的第2浆液的工序；

(c)将上述第1浆液和上述第2浆液混合，得到混合浆液的工序；及

(d)对上述混合浆液进行干燥和烧成的工序。

2.如权利要求1所述的氧化铈系研磨材料的制造方法，其中工序(b)中，作为含有轻稀土类盐粒子的上述浆液，使用上述第1浆液的一部分。

3.如权利要求1或2所述的氧化铈系研磨材料的制造方法，采用包含从含稀土类元素的矿石中物理化学地分离除去稀土类元素以外的杂质、以及Nd和原子序数比Nd大的稀土类元素的方法，得到工序(a)的上述含铈的轻稀土类盐的水溶液。

4.如权利要求1～3的任一项所述的氧化铈系研磨材料的制造方法，工序(a)和(b)的至少一方的轻稀土类盐粒子选自碳酸盐、氢氧化物、草酸盐及它们的混合物的粒子。

5.如权利要求1～4的任一项所述的氧化铈系研磨材料的制造方法，上述氧化铈系研磨材料的氟含有率为0.1～10质量％。

6.如权利要求1～5的任一项所述的氧化铈系研磨材料的制造方法，其中工序(a)中包括：在轻稀土类盐的粒子析出后，进行洗涤，除去轻稀土类盐以外的杂质。

7.如权利要求1～6的任一项所述的氧化铈系研磨材料的制造方法，在工序(a)～(d)之间不包含湿式粉碎工序。

8.如权利要求1～7的任一项所述的氧化铈系研磨材料的制造方法，工序(d)还包含进行分级。

9.一种氧化铈系研磨材料，是采用权利要求1～8的任一项所述的方法制造的。

10.如权利要求9所述的氧化铈系研磨材料，研磨材料为浆液。

11.一种玻璃基板的研磨方法，使用权利要求9所述的氧化铈系研磨材料研磨玻璃基板。

12.一种玻璃基板的制造方法，包括采用权利要求11所述的方法研磨玻璃基板的工序。

13.一种光学透镜、硬盘、显示板、特定频率截止用滤波器、或者LSI或显示板用光掩模的制造方法，包括采用权利要求11所述的方法研磨玻璃基板的工序。