[发明专利]用于离子束均匀性的栅格透明度和栅格孔图案控制

权利要求书

1.一种用于产生用于束栅格的孔的改变图案的设计方法，包括：

确定待被更改的用于束栅格的孔的初始图案；

获得用于所述束栅格的孔的所述初始图案的变化系数；

基于孔的所述初始图案，利用所述变化系数来产生用于 所述束栅格的孔的所述改变图案。

2.根据权利要求1所述的设计方法，其中，所述变化系数是孔位 置变化系数或孔直径变化系数中的一个或两个。

3.根据权利要求1所述的设计方法，其中，所述获得操作包括求 解微分方程。

4.根据权利要求1所述的设计方法，其中，所述获得操作包括求 解以下微分方程中的一个或两个：

dRdr=r×f(r)R×F(R),]]>其中，

r表示初始图案孔位置的径向座标；

f(r)表示初始栅格图案的栅格透明度；

F(R)表示改变栅格图案的栅格透明度；以及

R表示用于产生所述改变栅格图案的所述变化系数，

或者

dXdx=h(x)H(X),]]>

其中，x表示初始图案孔位置的卡迪尔座标，

h(x)表示初始栅格图案的栅格透明度；

H(X)表示改变栅格图案的栅格透明度；以及

X表示用于产生所述改变栅格图案的所述变化系数。