[发明专利]荧光体、荧光体片及其制造方法、和使用该荧光体的发光装置无效
| 申请号: | 200680010489.4 | 申请日: | 2006-03-30 |
| 公开(公告)号: | CN101151346A | 公开(公告)日: | 2008-03-26 |
| 发明(设计)人: | 永富晶;坂根坚之 | 申请(专利权)人: | 同和电子科技有限公司 |
| 主分类号: | C09K11/59 | 分类号: | C09K11/59;C09K11/64;C09K11/08;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 张平元;赵仁临 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 荧光 及其 制造 方法 使用 发光 装置 | ||
1.一种荧光体,由通式MmAaBbOoNn:Z表示(M元素是价数为II价的1种以上的元素,A元素是价数为III价的1种以上的元素,B元素是价数为IV价的1种以上的元素,O是氧,N是氮,Z是1种以上的活化剂),其中,
5.0<(a+b)/m<9.0,0≤a/m≤2.0,0≤o<n,n=2/3m+a+4/3b-2/3o,用波长为250nm~430nm范围的光激发时,发光光谱中最大峰值波长在400nm~500nm的范围。
2.权利要求1所述的荧光体,其中,0.0≤a/m≤2.0,4.0≤b/m≤8.0,6.0≤(a+b)/m≤8.0,0.0<o/m≤3.0。
3.权利要求1或2所述的荧光体,其中,0≤x≤2时,a=x×m,b=(6-x)×m,o=(1+x)×m,n=(8-x)×m。
4.权利要求1~3中任一项所述的荧光体,其中,用波长350nm~430nm范围的单色光激发时,将波长400nm~500nm范围的发光光谱的最大发光强度作为Pmax,将最小发光强度作为Pmin时,Pmin/Pmax为30%以上。
5.权利要求1~4中任一项所述的荧光体,其中,
M元素是选自Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、原子价为II价的稀土元素中的一种以上的元素;
A元素是选自Al、Ga、In、Tl、Y、Sc、P、As、Sb、Bi中的一种以上的元素;
B元素是选自Si、Ge、Sn、Ti、Hf、Mo、W、Cr、Pb、Zr中的一种以上的元素;
Z元素是选自稀土元素、过渡金属元素中的一种以上的元素。
6.权利要求1~5中任一项所述的荧光体,其中,
M元素是选自Mg、Ca、Sr、Ba、Zn中的一种以上的元素;
A元素是选自Al、Ga、In中的一种以上的元素;
B元素是Si和/或Ge;
Z元素是选自Eu、Ce、Pr、Tb、Yb、Mn中的一种以上的元素。
7.权利要求1~6中任一项所述的荧光体,其中,M元素是Sr,A元素是Al,B元素是Si,Z元素是Eu。
8.权利要求1~7中任一项所述的荧光体,其中,该荧光体表示为通式MmAaBbOoNn:Zz时,M元素和Z元素的摩尔比z/(m+z)的值为0.0001~0.5。
9.权利要求1~8中任一项所述的荧光体,其中,含有16.0重量%~25.0重量%的Sr、2.0重量%~9.0重量%的Al、0.5重量%~11.5重量%的O、23.0重量%~32.0重量%的N、超过0且为3.5重量%以下的Eu,并且以波长250nm~430nm范围的光激发时,发光光谱中最大峰波长为400nm~500nm的范围。
10.权利要求1~9中任一项所述的荧光体,其中,在采用使用了CoKα射线的粉末法测出的X射线衍射图案中,在布拉格角(2θ)为35°~37°的范围内出现了强度最强的衍射峰,并且,采用该粉末法测出的X射线衍射图案在布拉格角(2θ)为23.6°~25.6°、33°~35°、39.7°~40.7°、43°~44°的范围内分别发现2个、2个、1个、1个特征衍射峰,将在布拉格角(2θ)为35°~37°的范围内看到的强度最强衍射峰的相对强度作为100%时,这些衍射峰的相对强度为2.0%~40%。
11.权利要求1~10中任一项所述的荧光体,其中,该荧光体中含有的生成相的结晶具有斜方晶系结构。
12.权利要求1~11中任一项所述的荧光体,其中,该荧光体中含有的生成相的晶格的单位体积为3453~3853。
13.权利要求1~11中任一项所述的荧光体,其中,该荧光体中含有的生成相的晶格的单位体积为3533~3853。
14.权利要求1~13中任一项所述的荧光体,其中,该荧光体中含有的生成相的晶格的晶格常数为a是7.85~8.28,b是9.26~9.58,c是4.80~4.92。
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