[发明专利]形成厚膜用正型光致抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 200680008846.3 | 申请日： | 2006-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN101142530A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 三隅浩一;奥井俊树 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 厚膜用正型光致抗蚀剂 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于在支持体表面形成光致抗蚀剂层的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物，其含有：(A)光酸产生剂，(B)可通过酸的作用使其碱溶解性增大的碱不溶性树脂，(C)碱可溶性树脂及(D)有机溶剂，其中(C)成分包含，含有至少80质量％的羟基苯乙烯单元的共聚物或聚羟基苯乙烯(C1)，条件是相对于(B)成分与(C)成分的合计质量100质量份，(C1)成分的含量不超过15质量份。
2.如权利要求1的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物，其中(B)成分是含有以下通式表示的单体单元的树脂，
其中R1是氢原子或甲基，R2是具有1～5个碳原子的烷基，且X是形成5～20个碳原子的环状结构的二价烃基，所述5～20个碳原子包括X表示的基团所键接的碳原子。
3.如权利要求1的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物，其中(C)成分是(C1)成分与酚醛清漆树脂(C2)的组合。
4.如权利要求1的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物，其中(D)成分是丙二醇甲基醚乙酸酯或其与其他有机溶剂的混合物。
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