[发明专利]包括半反射锡和碲基合金层的光学数据存储介质

权利要求书

1.光学记录介质，包括：

无机材料的有源层(3)，其在写操作中能够经历局部变形并呈现设计为至少在读操作中接收光学辐射(6)的前面(4)，

和半反射层(2)，布置在所述有源层(3)的前面上，

介质特征在于半反射层(2)是锡和碲基合金薄层。

2.如权利要求1所述的介质，特征在于所述合金是锡和碲合金。

3.如权利要求2所述的介质，特征在于所述锡和碲合金中锡原子百分比的比例在40％和60％之间。

4.如权利要求3所述的介质，特征在于所述锡和碲合金中锡原子百分比的比例在45％和55％之间。

5.如权利要求1所述的介质，特征在于所述合金是锡、碲和选自锌和铟的金属的合金。

6.如权利要求5所述的介质，特征在于所述合金中的选自锌和铟的所述金属的原子百分比的比例小于或等于10％。

7.如权利要求1至6中的任何一个所述的介质，特征在于所述有源层(3)的无机材料是碲和锌合金。

8.如权利要求1至7中的任何一个所述的介质，特征在于所述有源层(3)和所述半反射层(2)形成具有小于或等于80nm的厚度的叠层。

9.如权利要求8所述的介质，特征在于所述叠层具有小于或等于50nm的厚度。

10.如权利要求8和9中的一个所述的介质，特征在于所述半反射层(2)和所述有源层(3)都具有约20nm的厚度。

11.如权利要求1至10中的任何一个所述的介质，特征在于所述有源层(3)能够经历由加热方法引起的局部变形。

12.如权利要求1至11中的任何一个所述的介质，特征在于所述有源层(3)能够经历由所述有源层(3)的所述前面(4)接收的写光学辐射的作用引起的局部变形。