[发明专利]涂覆用于传送气态氧的管道元件或装置的方法无效
申请号: | 200680006854.4 | 申请日: | 2006-02-13 |
公开(公告)号: | CN101133179A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | A·科尔松;E·法诺 | 申请(专利权)人: | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 |
主分类号: | C23C4/08 | 分类号: | C23C4/08;C23C4/02;F27D23/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 吴鹏;秘凤华 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 传送 气态 管道 元件 装置 方法 | ||
1.一种用于生产由钢或合金钢制成的设备或设备元件的方法,该设备或设备元件能够在使用过程中与加压氧接触。其中,通过将喷涂材料热喷涂在所述元件或设备的至少部分表面上来生成涂层,以便在所述表面上得到至少一层厚度小于或等于5mm的涂层,其特征在于,所述喷涂材料选自镍以及镍和铜的合金。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,生成厚度为0.1mm到5mm的涂层。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述元件或设备由钢、铸铁或不锈钢制成。
4.根据权利要求1到3中任何一项所述的方法,其特征在于,所述元件或设备具有腔室或内部通道,所述涂层形成在所述腔室或所述内部通道的至少部分内壁上。
5.根据权利要求1到4中任何一项所述的方法,其特征在于,该喷涂材料是镍或镍/铜合金,该合金含有多达60%重量比的铜,其余为镍。
6.根据权利要求1到5中任何一项所述的方法,其特征在于,所述涂层通过喷射等离子体、APS或HVOF生成。
7.根据权利要求1到6中任何一项所述的方法,其特征在于,所述涂层通过使用选自氩、氢、氦和氮的气体作为运载气体的喷射等离子体生成。
8.根据权利要求1到7中任何一项所述的方法,其特征在于,生成由完全氧化的第二种材料制成的作为附加保护层的涂层,优选为附加的陶瓷层。
9.根据权利要求1到8中任何一项所述的方法,其特征在于,所述元件或设备选自阀体、回转部件或任何其他气态氧管道的设备,包括管道系统的元件。
10.一种被设计成在使用过程中与加压氧接触并且包括由钢或合金钢制成的体部的设备或设备元件,尤其是管道系统的元件,其特征在于,在所述体部的至少部分表面上包含至少一层涂层,该涂层的材料选自镍以及镍和铜的合金,所述涂层的厚度小于或等于5mm。
11.一种使用至少一个氧管道传送加压氧的方法,在该管道中氧在压力下被传送,其特征在于,如权利要求10所述的或者通过权利要求1到9中任何一项所述的方法得到的设备或设备元件设置在所述管道上,并与在所述管道中流通的加压氧接触。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
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