[发明专利]涂敷或粘结研磨制品有效
| 申请号: | 200680005483.8 | 申请日: | 2006-02-21 |
| 公开(公告)号: | CN101142055A | 公开(公告)日: | 2008-03-12 |
| 发明(设计)人: | D·内弗莱特;G·斯韦;A·扎诺利 | 申请(专利权)人: | 圣戈本磨料股份有限公司 |
| 主分类号: | B24D5/00 | 分类号: | B24D5/00;B24D7/00;B24D11/00;B24D18/00 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陈哲锋 |
| 地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 粘结 研磨 制品 | ||
1.一种涂敷的研磨制品,其包括:
基板;
图案化的研磨结构组,所述图案化的研磨结构组中的各研磨结构具有设计的微特征。
2.如权利要求1所述的涂敷的研磨制品,其特征在于,所述设计的微特征包括内部结构化的孔。
3.如权利要求2所述的涂敷的研磨制品,其特征在于,所述设计的微特征是内部结构化的孔的图案。
4.如权利要求3所述的涂敷的研磨制品,其特征在于,所述内部结构化的孔的图案在所述图案化的研磨结构组的多个研磨结构中重复。
5.如权利要求2所述的涂敷的研磨制品,其特征在于,所述各研磨结构的内部结构孔的尺寸可变度不大于50微米。
6.如权利要求5所述的涂敷的研磨制品,其特征在于,所述各研磨结构的内部结构孔的尺寸可变度不大于8微米。
7.如权利要求2所述的涂敷的研磨制品,其特征在于,所述各研磨结构的内部结构孔的位置可变度不大于50微米。
8.如权利要求2所述的涂敷的研磨制品,其特征在于,所述内部结构孔的几何横截面选自多边形、圆形和不规则形状。
9.如权利要求1所述的涂敷的研磨制品,其特征在于,所述设计的微特征是表面通道。
10.如权利要求1所述的涂敷的研磨制品,其特征在于,所述设计的微特征是裂开面。
11.一种研磨制品,其包括具有差的脱模轮廓的外表面。
12.如权利要求11所述的研磨制品,其特征在于,所述研磨制品包括沿研磨制品外表面的研磨结构图案,所述研磨结构中至少一个壁相对于垂直方向从研磨制品外表面延伸出来以-90°至0°的斜度延伸。
13.如权利要求12所述的研磨制品,其特征在于,所述研磨结构的图案是研磨结构的阵列。
14.如权利要求12所述的研磨制品,其特征在于,所述研磨制品是涂敷的研磨制品。
15.如权利要求11所述的研磨制品,其特征在于,所述研磨制品是粘结的研磨制品,所述粘结的研磨制品包括从所述粘结的研磨制品的外表面延伸入所述粘结的研磨制品内的特征,所述特征的特征长宽比至少约为1.5,所述特征长宽比是从外表面向内延伸的特征深度与所述粘结的研磨制品外表面上最小特征开口尺寸之比。
16.如权利要求15所述的研磨制品,其特征在于,所述特征长宽比至少约为2.5。
17.如权利要求16所述的研磨制品,其特征在于,所述特征长宽比至少约为3.5。
18.如权利要求15所述的研磨制品,其特征在于,所述特征是具有弯曲的横截面的通道。
19.如权利要求15所述的研磨制品,其特征在于,所述粘结的研磨制品包括内部通道。
20.如权利要求19所述的研磨制品,其特征在于,所述内部通道是非线性的。
21.一种研磨制品,其包括多个图案化的层,在所述多个图案化的层中的一个层中,第一区域具有第一组成,第二区域具有不同于所述第一组成的第二组成。
22.如权利要求21所述的研磨制品,其特征在于,所述第一区域和第二区域提供不同的特性,所述不同的特性作为在所述研磨制品中位置的函数而变化。
23.如权利要求22所述的研磨制品,其特征在于,所述第一区域和第二区域提供作为与所述研磨制品中心相距的半径的函数而变化的特性。
24.如权利要求22所述的研磨制品,其特征在于,所述特性包括颗粒密度。
25.如权利要求22所述的研磨制品,其特征在于,所述特性包括结合强度。
26.如权利要求22所述的研磨制品,其特征在于,所述特性包括弹性模量。
27.如权利要求22所述的研磨制品,其特征在于,所述特性包括压缩模量。
28.如权利要求22所述的研磨制品,其特征在于,所述特性包括孔隙度。
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